フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析― 製品タイプ別、アプリケーション別、エンドユーザー別、技術ノード別、及び地域別―世界市場の見通しと予測 2026－2035年

フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場分析

フォトレジスト化学(EUV/DUV)とは何ですか？

フォトレジスト化学(EUV/DUV)は、半導体製造においてシリコンウェハ上に微細なパターンを形成するために使用される、光に反応するポリマー系材料です。EUVフォトレジストは13.5 nmの波長で動作し、DUVフォトレジストは193 nm（ ArF ）または248 nm（ KrF ）の波長を使用します。これらの波長は紫外線に曝されると溶解度が変化するため、半導体リソグラフィーにおいて選択的に除去することが可能です。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)における最近の傾向は何ですか？

当社のPhotoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)分析調査レポートによると、以下の市場傾向と要因が市場成長の主要な推進力として貢献すると予測されています。

• 半導体産業の拡大：

当社の調査レポートによると、世界的な半導体産業の急速な拡大が市場を牽引する主要因となっています。半導体製造にはフォトレジストを含むウェハー製造用化学薬品など、複雑な上流工程材料が用いられるため、半導体分野におけるフォトレジスト用化学薬品の需要は増加しています。

経済協力開発機構（OECD）によると、2025年12月時点で、世界には1,433カ所を超える半導体製造施設（ファブ）が存在しており、産業規模の著しい拡大を反映しています。この拡大は、AI、5G、と自動車分野における高度な半導体チップへの需要の高まりと密接に関連しています。

新規ファブの稼働には、複数のリソグラフィ工程においてフォトレジストの消費が伴うことから、市場の見通しは依然として極めて強気なものとなっています。

• 先進半導体ノードへの急速な移行：

EUVリソグラフィによって可能になった先進半導体ノードへの急速な移行は、市場成長を促進する重要な要因です。

EUVリソグラフィは、7nm以下、5nm、3nmノードの中核技術です。OECDの調査報告書によると、7nm以下の製造プロセスは複雑化し、EUVフォトレジストなどの高精度材料が必要となります。

当社の分析によると、EUVフォトレジスト市場は予測期間中に複利年間成長率（CAGR）12.5%で成長し、2035年までに58億米ドルに達すると予想されます。先進ノードの採用が世界的に拡大し続けているため、市場の見通しは依然として堅調です。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)において、日本の国内企業はフォトレジスト化学(EUV/DUV)の輸出に関してどのような恩恵を受けるのか？

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)は、世界的な技術的優位性を背景に、日本の企業にとって輸出主導型の大きなビジネスチャンスを提供しています。OECDの調査報告書によると、フォトレジストは半導体製造において重要な役割を果たしており、Shin-Etsu Chemical、JSR、Tokyo Ohka Kogyo などの日本企業が市場全体の80%以上を占めています。

日本の経済産業省は、国内の半導体サプライチェーンを強化するため、補助金やインセンティブ制度を導入しました。さらに、世界的な半導体受託製造（ファブ）企業との連携や、韓国からの需要拡大が輸出量を押し上げています。中国に対する輸出規制が短期的な圧力要因となっているものの、こうした好材料がそれを相殺している状況です。

世界的な半導体需要の高まりが輸出の潜在力を支えていることから、短期的な地政学的課題が存在する中でも、市場全体の見通しは依然として強気なものとなっています。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)に影響を与える主な制約要因は何ですか？

フォトレジスト化学市場における主要な制約要因は、高度なリソグラフィー材料の高い設備投資額とコスト負担です。当社の調査によると、半導体製造は最も設備投資額の多い産業の一つであり、EUVフォトレジストを含むプロセス統合と材料に数十億米ドル規模の投資が必要です。このことが、中小メーカーにおけるフォトレジストの導入を制限し、予測期間中の市場全体の成長を阻害すると予想されます。

競争力ランドスケープ

SDKI Analyticsの調査者によると、Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)の見通しは、大企業と中小企業といった規模の異なる企業間の市場競争により、細分化されています。調査報告書によると、市場参加者は、製品や技術の発表、戦略的提携、協力、買収、事業拡大など、あらゆる機会を活用して、市場全体の見通しにおいて競争優位性を獲得しようとしています。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)で事業を展開する世界有数の企業はどれですか？

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)の成長において重要な役割を担う主要企業には、DuPont、Dow、Merck KGaA (EMD)、BASF、Samsung SDI などが含まれます。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)で競合する主要な日本企業はどれですか？

市場見通しによると、日本のPhotoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)の上位5社は、JSR Corporation、Tokyo Ohka Kogyo (TOK)、Shin-Etsu Chemical、Mitsubishi Chemical Group、Sumitomo Chemical であります。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)分析調査レポートにおける主要企業の詳細な競合分析、企業プロファイル、最近の傾向、と主要な市場戦略が含まれています。

Photoresist Chemicals (EUVDUV) Market(フォトレジスト化学(EUV/DUV)市場)における最新のニュースや傾向は何ですか？

• 2026年4月、Resonac Corporationは、日米コンソーシアムUS JOINTの下で次世代半導体パッケージ技術のための新しい研究開発センターを開設したと発表しました。
• 2024年10月、DuPontは日本のDuPont笹神サイトにおけるフォトレジスト製造能力の拡張を発表しました。