リソグラフィー装置市場調査調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析―テクノロジー別、アプリケーション別、及び地域別―世界市場の見通しと予測 2026-2035年

出版日: Nov 2024

Market Research Reports
  • 2020ー2024年
  • 2026-2035年

リソグラフィー装置市場エグゼクティブサマリ

1) リソグラフィー装置市場規模

当社のリソグラフィー装置市場調査レポートによると、市場は予測期間(2026~2035年)において年平均成長率(CAGR)8.4%で成長すると予想されています。2035年には、市場規模は1,039億米ドルに達すると見込まれています。

しかし、当社の調査アナリストによると、基準年の市場規模は464億米ドルに達しました。EUVリソグラフィへの技術シフトは、市場の重要な成長要因の一つです。

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2) リソグラフィー装置市場の動向 – 好調な推移を示す分野

SDKI Analyticsの専門家によると、予測期間中に予測されるリソグラフィー装置市場のトレンドには、 EUVリソグラフィ、DUVリソグラフィ、先端パッケージングなどの分野が含まれます。予測期間中にリソグラフィー装置市場をリードすると予想される主要なトレンドについて、以下に詳細をご紹介します。

市場セグメント

主要地域

CAGR(2026-2035年)

主要な成長要因

EUVリソグラフィー

アジア太平洋地域

10.2%

5nm以下のノード需要、ファブ拡張、政府補助金

DUVリソグラフィー

北米

6.8%

レガシーノードの生産、コスト効率、機器の再利用

高度なパッケージング

ヨーロッパ

9.1%

2.5D/3D IC成長、車載エレクトロニクス、小型化

MEMSとセンサー

アジア太平洋地域

8.7%

IoTの普及、スマートデバイス、産業オートメーション

LEDおよびパワーデバイス

ラテンアメリカ

7.4%

再生可能エネルギー、照明のアップグレード、インフラの拡大

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

3) 市場定義 – リソグラフィー装置とは何ですか?

リソグラフィー装置は、半導体製造においてシリコンウェーハ上に回路パターンを転写する精密機械を指します。集積回路やマイクロチップの製造に不可欠な装置です。この装置は、先端パッケージング、MEMSデバイス、LED製造といったニッチな分野に貢献しています。

半導体製造装置に分類され、深紫外線(DUV)、極端紫外線(EUV)、マスクアライナーなどのカテゴリーが含まれます。これらのシステムは、小型化と性能が鍵となる電子機器、自動車、通信などのハイテク産業において極めて重要です。

4) 日本リソグラフィー装置市場規模:

日本のリソグラフィー装置市場は、予測期間中に8.4%の年平均成長率(CAGR)を記録すると予測されています。この成長は、車載エレクトロニクス、5Gインフラ、AIアプリケーションにおける先進的な半導体の需要増加に起因しています。日本の強固な研究開発エコシステムと、ニコンやキヤノンといった主要企業の存在が、イノベーションをさらに支えています。

といった政府の施策は、市場拡大を後押ししています。さらに、半導体のレジリエンス強化に関する米国およびEUとの協力は、投資と技術交流を促進し、日本の国際競争力を強化しています。

  • 日本の現地市場プレーヤーの収益機会:

日本の現地市場プレーヤーにとって、リソグラフィー装置市場に関連するさまざまな収益機会は次のとおりです。

収益創出の機会

主要成功指標

主な成長要因

市場洞察

競争の激しさ

先進パッケージングリソグラフィー

精密なアライメント

チップレットアーキテクチャの台頭

イビデンや新光電気などの企業がFOWLPや3D IC向けの先進リソグラフィーに投資し、日本のパッケージングエコシステムは拡大しています。

適度

マスクアライナーシステム

コスト効率

MEMSおよびLED製造における継続的な使用

マスクアライナーは、特に自動車やセンサー用途において、日本の強力なMEMSおよびLEDセクターにとって依然として重要であます。

低い

レーザー直接イメージング(LDI)

細線解像度

HDI PCBの拡張

スマートフォンやウェアラブルの高密度相互接続にLDIを採用しています。

適度

半導体ファウンドリーEUVリソグラフィー

Mask

フラットパネルディスプレイリソグラフィー

ナノインプリントリソグラフィー(NIL)

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

  • 日本のリソグラフィー装置市場の都道府県別内訳:

以下は、日本におけるリソグラフィー装置市場の都道府県別の内訳の概要です。

CAGR(%)(2026―2035年)

主な成長要因

東京

8%

大手半導体企業の本社

神奈川

7%

キヤノンをはじめとするリソグラフィーOEMの存在

大阪

6.5%

産業用電子機器製造

愛知

Mask 

広島

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

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リソグラフィー装置市場成長要因

当社のリソグラフィー装置市場分析調査レポートによると、以下の市場動向と要因が市場成長の中核的な原動力として貢献すると予測されています。

  • AIと高性能コンピューティング(HPC)による高度なロジックチップの需要:

世界的な人工知能(AI)と高性能コンピューティング(HPC)のブームは、半導体業界における根本的な構造変化を象徴しており、高度なロジックチップに対する飽くなき需要を生み出しています。5nm未満のプロセスノードでの製造は、極端紫外線(EUV)リソグラフィシステムなしには不可能であり、リソグラフィー装置の需要を直接的に増加させています。

米国半導体工業会(SIA)のレポートによると、世界の半導体売上高は2024年に6,276億米ドルに達し、前年比19.1%増となる見込みです。この増加は、高性能コンピューティング(HPC)やAIの統合に向けた半導体需要の増加によるものです。半導体需要の高まりは生産効率の向上の必要性を示唆しており、リソグラフィー装置の使用量増加につながるでしょう。

  • 半導体製造能力のグローバル拡大:

激しい地政学的緊張により、発展途上国は半導体の生産と利用において自給自足を目指しています。米国のCHIPS法と欧州のCHIPS法は、地域政府が半導体生産におけるシェア拡大を目指して実施している取り組みの一例です。これにより、リソグラフィー装置の売上が増加すると予想されています。例えば、米国半導体工業会(SIA)の2025年レポートによると、米国の半導体製造能力は2032年までに約203%増加すると予測されています。

米国の場合、半導体エコシステムは28州で130件以上のプロジェクトを発表しており、2020年以降、民間投資総額は6,300億米ドルを超え、半導体生産インフラを支えています。これは、集中型で効率重視のグローバルサプライチェーンから、より分散型でレジリエンス重視のモデルへの根本的な転換を意味しており、新規ファブの設備導入と既存ファブの拡張に伴い、リソグラフィー装置サプライヤーにとって数年にわたる好況に直接つながります。

サンプル納品物ショーケース

この市場の主要な成長要因のいくつかを理解します PDFをダウンロード

レポートの洞察 - リソグラフィー装置市場の世界シェア

SDKI Analyticsの専門家によると、リソグラフィー装置市場の世界シェアに関連するレポートの洞察は以下のとおりです。

レポートの洞察

2026―2035年のCAGR

8.4%

2025年の市場価値

464億米ドル

2035年の市場価値

1,039億米ドル

履歴データの共有

過去5年間 2024年まで

未来予測は完了

2035年までの今後10年間

ページ数

200ページ以上

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

リソグラフィー装置市場セグメンテーション分析

リソグラフィー装置市場の見通しに関連する様々なセグメントにおける需要と機会を説明する調査を実施しました。市場をテクノロジー別とアプリケーション別にセグメント化しました。

リソグラフィー装置市場はテクノロジー別に基づいて、EUVリソグラフィ、 ArF液浸リソグラフィ、 KrFリソグラフィ、 i線リソグラフィ、レーザー直接描画、その他に分割されています。極端紫外線(EUV)リソグラフィは、2035年までにリソグラフィー装置セクターの42.6%を占めると予想されており、各技術の割合において他を大きくリードすることになります(報告された生産収益に基づく)。EUVリソグラフィは、13.5nmの波長の光を用いて、5nm、3nm、そしてそれ以下の先端ノードで非常に精密なパターン形成を行います。

EUVテクノロジーは、プロセスを簡素化し、歩留まりを標準化し、製造におけるチップ生産を加速します。多層マスクを最小限に抑えながら高解像度を実現する能力は、AI、HPC、モバイルアプリケーション向けチップの製造において重要です。代替手段の限界と高まる小型化の需要に応える技術です。最先端の半導体製造において不可欠な要素となり、効率性向上への全く独自のアプローチを提供し、半導体市場における技術革新を加速させます。

さらに、リソグラフィー装置市場はアプリケーション別に基づいて、先端パッケージング、LEDデバイス、MEMSデバイス、ディスプレイパネル製造、その他に分割されています。先端パッケージングセグメントは、2035年までに36.8%のシェアを占めると予想されています。パッケージングは、2.5D/3D ICやファンアウト型ウェーハレベルパッケージングなどの技術を用いて、複数のダイを単一のパッケージに統合することで、性能向上を実現します。

高度なパッケージングは、継続的な性能スケーリングの鍵となる要素であり、リソグラフィツールはサブミクロン精度を実現し、チップレットベースのアーキテクチャを可能にする上で重要な役割を果たします。高度なパッケージングにより、特殊なパッケージング専用に設計された新しいリソグラフィシステムが生まれ、スケーリングの基盤は、ロジックおよびメモリ製品を通じた従来のスケーリングから、既存のパッケージング革命の活用によるパッケージングイノベーションへと大きく変化します。

、リソグラフィー装置市場に該当するセグメントのリストです。

親セグメント

サブセグメント

テクノロジー別

  • EUVリソグラフィー
    • 高度なパッケージング
    • LEDデバイス
    • MEMSデバイス
    • ディスプレイパネル製造
    • その他
  • ArF液浸リソグラフィー
    • 高度なパッケージング
    • LEDデバイス
    • MEMSデバイス
    • ディスプレイパネル製造
    • その他
  • KrFリソグラフィー
    • 高度なパッケージング
    • LEDデバイス
    • MEMSデバイス
    • ディスプレイパネル製造
    • その他
  • i線リソグラフィー
    • 高度なパッケージング
    • LEDデバイス
    • MEMSデバイス
    • ディスプレイパネル製造
    • その他
  • レーザー直接イメージング
    • 高度なパッケージング
    • LEDデバイス
    • MEMSデバイス
    • ディスプレイパネル製造
    • その他
  • その他
    • 高度なパッケージング
    • LEDデバイス
    • MEMSデバイス
    • ディスプレイパネル製造
    • その他

アプリケーション別

  • 高度なパッケージング
    • EUVリソグラフィー
    • ArF液浸リソグラフィー
    • KrFリソグラフィー
    • i線リソグラフィー
    • レーザー直接イメージング
    • その他
  • LEDデバイス
    • EUVリソグラフィー
    • ArF液浸リソグラフィー
    • KrFリソグラフィー
    • i線リソグラフィー
    • レーザー直接イメージング
    • その他
  • MEMSデバイス
    • EUVリソグラフィー
    • ArF液浸リソグラフィー
    • KrFリソグラフィー
    • i線リソグラフィー
    • レーザー直接イメージング
    • その他
  • ディスプレイパネル製造
    • EUVリソグラフィー
    • ArF液浸リソグラフィー
    • KrFリソグラフィー
    • i線リソグラフィー
    • レーザー直接イメージング
    • その他
  • その他
    • EUVリソグラフィー
    • ArF液浸リソグラフィー
    • KrFリソグラフィー
    • i線リソグラフィー
    • レーザー直接イメージング
    • その他

  ソース: SDKI Analytics 専門家分析

世界のリソグラフィー装置市場で調査された地域:

SDKI Analyticsの専門家は、リソグラフィー装置市場に関するこの調査レポートのために、以下の国と地域を調査しました。

地域

北米

  • 米国
  • カナダ

ヨーロッパ

  • ドイツ
  • フランス
  • イングランド
  • イタリア
  • スペイン
  • オランダ
  • ロシア
  • ノルディック
  • その他のヨーロッパ

アジア太平洋地域

  • 中国
  • 日本
  • インド
  • 韓国
  • オーストラリア
  • マレーシア
  • インドネシア
  • シンガポール
  • その他のアジア太平洋地域

ラテンアメリカ

  • ブラジル
  • アルゼンチン
  • メキシコ
  • ラテンアメリカのその他の地域

中東・アフリカ

  • GCC
  • イスラエル
  • 南アフリカ
  • その他の中東およびアフリカ

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

allyl methacrylate market segmentation survey

リソグラフィー装置市場の抑制要因

世界のリソグラフィー装置市場における大きな制約要因は、EUVリソグラフィのような先進的なシステムに必要な高額な設備投資です。先進的なリソグラフィー装置は平均で150百万米ドルを超えることもあり、小規模メーカーにとっては導入が困難です。設置、メンテナンス、そして熟練労働者の複雑さも、運用コストをさらに押し上げます。この経済的障壁は、特に新興国における導入を遅らせ、市場支配力を少数の大手企業に集中させ、ひいては業界全体の成長とイノベーションを阻害しています。

リソグラフィー装置市場 歴史的調査、将来の機会、成長傾向分析

リソグラフィー装置メーカーの収益機会

世界中のリソグラフィー装置メーカーに関連する収益機会の一部は次のとおりです。

機会エリア

対象地域

成長の原動力

EUVリソグラフィーシステム

北米

CHIPS法の資金

先進パッケージングリソグラフィー

東アジア(日本、台湾、韓国)

チップレットアーキテクチャの台頭

レーザー直接イメージング(LDI)

東南アジア

PCB製造拠点の成長(ベトナム、マレーシア)

マスクアライナー装置

Mask

フラットパネルディスプレイリソグラフィー

ナノインプリントリソグラフィー(NIL)

レガシーノード向けDUVリソグラフィー

MEMSデバイス向けフォトリソグラフィー

鋳造設備サービス

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

世界のリソグラフィー装置シェア拡大の実現可能性モデル

当社のアナリストは、リソグラフィー装置市場の世界シェアを分析するために、世界中の業界専門家が信頼し、適用している有望な実現可能性モデルをいくつか提示しました。

実現可能性モデル

地域

市場成熟度

医療システムの構造

経済発展段階

競争環境の密度

適用理由

PESTLE分析

北米

成熟した

混合(公立・私立)

発展した

高い

政治的および経済的安定性、技術革新、規制の枠組みを評価します。

ポーターの5つの力

東アジア

高度な

ユニバーサルカバレッジ

発展した

非常に高い

サプライヤーの力 (ASML など)、バイヤーの集中度、新規参入者の脅威を評価します。

SWOTフレームワーク

東南アジア

新興

混合

現像

適度

労働コストの強み、インフラの弱点、FDI の機会を特定します。

市場魅力度指数(MAI)

 

 

Mask

費用便益分析(CBA)

テクノロジー導入ライフサイクル

シナリオプランニング

バリューチェーンマッピング

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

市場傾向分析と将来予測:地域市場の見通しの概要

北米のリソグラフィー装置市場規模:

SDKI Analyticsは、北米市場が予測期間を通じて世界市場で第2位の地位を確保すると予測しています。市場の成長は、半導体需要の急増に支えられています。

北米では、民生用電子機器、自動車技術、通信といった様々な分野の成長に伴い、先端半導体部品の需要が急速に増加しています。これにより、高性能チップの製造を支える最先端リソグラフィー装置への投資が加速しています。米国は、巨額の半導体投資、強力な人材プール、主要産業プレーヤーの存在、高度なインフラ、そしてサプライチェーンを背景に、この地域の市場において支配的な地位を確保すると予想されています。

  • 北米のリソグラフィー装置市場の市場強度分析:

北米のリソグラフィー装置市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです。

カテゴリ

米国

カナダ

市場の成長可能性

高い

適度

規制環境の複雑さ

適度

低い

価格体系

プレミアム

競争力

熟練した人材の可用性

Mask

標準および認証フレームワーク

イノベーションエコシステム

技術統合率

市場参入障壁

投資環境

サプライチェーン統合

競争の激しさ

顧客基盤の高度化

インフラの準備

貿易政策の影響

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

ヨーロッパのリソグラフィー装置市場規模:

当社のSDKI市場調査とアナリストは、欧州のリソグラフィー装置市場が予測期間中に持続的な成長を遂げると予測していることを示しています。市場の成長は、持続可能な製造方法への関心の高まりに支えられています。

ヨーロッパ連合(EU)が課す環境規制により、メーカーはエネルギー効率が高く環境に優しい製造プロセスの採用を迫られています。欧州のリソグラフィー装置メーカーは、EUの持続可能性目標に沿ったシステムを開発しており、これが地域における競争力の向上につながっています。

さらに、市場の成長は新興技術との統合の進展によって牽引されています。欧州における先進パッケージング、MEMS、センサー技術の急速な成長は、汎用性の高いリソグラフィソリューションの需要を加速させています。これらの技術は、自動車、ヘルスケア、民生用電子機器などのアプリケーションで広く利用されています。

  • ヨーロッパのリソグラフィー装置市場の市場強度分析:

ヨーロッパのリソグラフィー装置市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです。

カテゴリ

イギリス

ドイツ

フランス

市場の成長可能性

適度

高い

適度

規制環境の複雑さ

適度

高い

高い

価格体系

競争力

プレミアム

競争力

熟練した人材の可用性

Mask

標準および認証フレームワーク

イノベーションエコシステム

技術統合率

市場参入障壁

投資環境

サプライチェーン統合

競争の激しさ

顧客基盤の高度化

インフラの準備

貿易政策の影響

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

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アジア太平洋地域のリソグラフィー装置市場規模:

アジア太平洋地域のリソグラフィー装置市場は、世界のリソグラフィー装置市場において41%以上の圧倒的シェアを獲得し、トップの地位を確保すると予想されています。また、予測期間を通じて年平均成長率(CAGR)8.7%を記録し、世界市場の中で最も急速な成長を遂げる地域市場となることが予想されています。

市場の成長は、民生用電子機器と自動車分野の拡大に支えられています。スマートフォン、電気自動車、AI対応デバイスの需要増加により、チップの複雑化が加速し、高精度リソグラフィーツールの必要性が高まっています。

さらに、半導体製造工場への投資増加が市場の成長を加速させています。中国、台湾、韓国、日本などの国々は、特にEUVおよびDUVリソグラフィーシステムを必要とする先端ノードにおいて、チップ製造能力の拡大を加速させています。

  • アジア太平洋地域リソグラフィー装置市場の市場強度分析:

アジア太平洋地域のリソグラフィー装置市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです。

カテゴリ

日本

中国

インド

マレーシア

韓国

市場の成長可能性

適度

高い

高い

適度

高い

規制環境の複雑さ

高い

高い

適度

低い

適度

価格体系

プレミアム

競争力

コスト重視

競争力

プレミアム

熟練した人材の可用性

Mask

標準および認証フレームワーク

イノベーションエコシステム

技術統合率

市場参入障壁

投資環境

サプライチェーン統合

競争の激しさ

顧客基盤の高度化

インフラの準備

貿易政策の影響

 ソース: SDKI Analytics 専門家分析

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リソグラフィー装置業界概要と競争ランドスケープ

リソグラフィー装置市場のメーカーシェアを支配する世界トップ10の企業は次のとおりです。

会社名

本社所在地国

リソグラフィー装置との関係

ASML

オランダ

EUVおよびDUVリソグラフィーシステムの大手プロバイダー

Onto Innovation

米国

オーバーレイ計測および検査ツールを供給

Veeco Instruments

米国

レーザーアニーリングと高度なリソグラフィーソリューションを提供

SÜSS MicroTec

Mask

EV Group (EVG)

SCREEN SPE USA

TSI Incorporated

Onto Innovation Korea

SilTerra

Tata Elxsi

ソース: SDKI Analyticsの専門家分析と企業のウェブサイト

リソグラフィー装置の世界および日本の消費者上位10社は次のとおりです。

主要消費者 消費単位(数量) 製品への支出 – 米ドル価値 調達に割り当てられた収益の割合
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC)
Intel Corporation
Samsung
Samsung
Samsung
Samsung
Honeywell
Samsung
Samsung
Samsung

日本のリソグラフィー装置市場におけるメーカーシェアを独占する上位10社は次のとおりです。

会社名

事業状況

リソグラフィー装置との関係

Nikon Corporation

日本原産

リソグラフィーステッパーの主要サプライヤー

Canon Inc.

日本原産

半導体リソグラフィー装置を提供

Ushio Inc.

日本原産

リソグラフィー光源を供給します

NuFlare Technology

Mask

Advantest Corporation

Hitachi High-Tech

Dainippon Screen

Tokyo Electron Ltd.

NanoSystem Solutions

NEOARK Corporation

ソース: SDKI Analyticsの専門家分析と企業のウェブサイト

リソグラフィー装置 市場 包括的企業分析フレームワーク

市場内の各競合他社について、次の主要領域が分析されます リソグラフィー装置 市場:

  • 会社概要
  • リスク分析
  • 事業戦略
  • 最近の動向
  • 主要製品ラインナップ
  • 地域展開
  • 財務実績
  • SWOT分析
  • 主要業績指標

リソグラフィー装置市場最近の開発

世界および日本におけるリソグラフィー装置市場に関連する最近の商業的発売および技術の進歩の一部は次のとおりです。

発売日

会社名

商業発売の詳細

2023年12月

ASML

TWINSCAN EXE:5000高NA EUVリソグラフィーシステムの商用化と初回出荷開始これは、2nm未満のプロセスノードに対応する最先端ロジックおよびメモリチップメーカーをターゲットとした、量産対応可能な初の高NA EUVスキャナーです。

2023年3月

Canon Inc.

次世代半導体製造を支える先進的なi線ステッパー「FPA - 5550iX」の発売を発表しました。50 × 50mmの広い露光フィールドと0.5µmの高解像度を特長とするこのステッパーは、フルフレームCMOSイメージセンサーやマイクロOLEDディスプレイへのシングルショット露光を可能にします。これらの技術は、拡張現実(XR)ヘッドセットなどの新興デバイスに不可欠な要素となります。

ソース:企業プレスリリース

目次

目次

よくある質問

世界のリソグラフィー装置市場規模は、予測期間中に年平均成長率(CAGR)8.4%で成長し、2035年には1,039億米ドルに達すると予測されています。さらに、当社の調査レポートによると、2025年のリソグラフィー装置市場規模は適度なペースで成長すると予想されています。

2025年には、世界のリソグラフィー装置市場規模は464億米ドルの収益を獲得しました。

ASML、Onto Innovation、Veeco Instruments、SÜSS MicroTec 、EV Group (EVG) などは、世界のリソグラフィー装置市場で活動している大手企業の一部です。

リソグラフィー装置市場において日本国内で活動している大手企業としては、Nikon Corporation、 Canon Inc.、 Ushio Inc.、 NuFlare Technology、 Advantest Corporationなどが挙げられます。

当社の調査レポートによると、アジア太平洋地域のリソグラフィー装置市場は、予測期間を通じて最も高い CAGR で成長すると予想されています。

当社の調査レポートによると、2025 年にはアジア太平洋地域がリソグラフィー装置市場で最大のシェアを獲得すると予測されています。
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