レーザーフォトマスク市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、および傾向洞察分析―製品別、マスク ショップ タイプ別、アプリケーション別、および地域別―世界市場の見通しと予測2025―2037 年

レーザーフォトマスク 市場分析

以前は、光学フォトマスクは、より小型の技術ノードでは解像度の限界に直面していましたが、より強力でコンパクトな半導体デバイスの需要に伴い、この問題が重要になってきました。レーザーフォトマスクは、より短い波長の光と電子ビームを利用することで、より微細なパターニングを可能にし、10 nm 未満のレベルまで解像度を下げることを目的として導入されました。

• SDKI Analytics の調査者によると、従来のフォトマスクと比較してレーザーフォトマスクはラインエッジの粗さを 40% 以上低減し、ナノスケール回路の精度と機能を向上させることができます。

さらに、多層半導体デバイスでは層間の正確な位置合わせに対するニーズが高まっており、光学フォトマスクでは位置ずれが発生することが多く、複雑な集積回路では生産効率の低下とエラーの原因となります。これにより、正確なレーザーガイドによるパターニングと位置合わせにより、より高い位置合わせ精度が得られるレーザーフォトマスクの需要が急速に高まっています。

• しかし、日本では半導体産業の好調により、業務の効率化を図るためにレーザーフォトマスクの需要が高まっています。当社のアナリストは調査報告書で、日本が半導体チップの総生産量の50%以上を占めており、フォトリソグラフィープロセス中に複雑な回路パターンをシリコンウェーハ上に転写するレーザーフォトマスク技術が重要であることを発見しました。

当社のレーザーフォトマスク市場分析調査レポートによると、次の市場傾向と要因が市場成長に貢献すると予測されています：

• 先端半導体デバイスの需要の成長―5nm と 3nm など、より小型でコンパクトで強力なノードを備えた最先端のチップへの需要により、高精度フォトマスクの必要性が高まっています。これらのノードは、スマートフォン、IoT デバイス、データセンターに役立ちます。メーカーが微細化を推し進める中、EUVリソグラフィーに対応できる高解像度フォトマスクの需要が急増しています。
  • 当社の市場調査レポートによると、世界の半導体市場規模は 2023 年に 6,200 億米ドルを超えた、より速いペースで拡大しており、レーザーフォトマスク技術の必要性が高まっています。
• フォトマスク製造における技術の進歩―レーザーフォトマスク技術と欠陥低減システムの技術進歩により、メーカーはより小型の半導体ノードに不可欠な、より高精度で欠陥の少ないフォトマスクを製造できるようになりました。このような進歩は、フォトマスクに要求される高精度を満たし、レーザーフォトマスク市場拡大の機会を生み出します。

レーザーフォトマスク市場は日本の市場プレーヤーにどのような利益をもたらしますか?

日本の市場関係者は、日本が世界の半導体サプライチェーン、先進的なフォトマスク、最先端のフォトリソグラフィー装置において強固な地位を占めているため、大きな機会から恩恵を受ける有利な立場にあります。これは最終的には日本からの世界的な半導体輸出の強化につながります。

• 当社の調査者によると、日本は主に韓国、台湾、米国からの需要に牽引されて、フォトマスクを含む半導体関連デバイスを 100 億米ドル以上輸出しています。

さらに、日本政府は、半導体の研究開発と製造への投資を促進するための税制上の優遇措置と補助金を提供する「半導体とデジタル産業のための戦略」プログラムなどの取り組みでこの市場を支援しています。これに伴い、経済産業省はフォトマスク技術を進歩させるための「デジタルトランスフォーメーションイニシアチブ」を立ち上げ、これにより日本の市場プレーヤーに成長の見通しがもたらされる可能性があります。

• さらに、日本企業はレーザーフォトマスク市場で進歩を遂げており、これは世界舞台での地位の強化につながる可能性があります。例えば、Toppan PhotomaskはIBMと半導体EUVフォトマスクの共同研究開発を行う契約を締結しており、これには次世代半導体での高NA EUVフォトマスクの開発も含まれます。このような進歩により、国内のレーザーフォトマスク市場が拡大する見込みです。

市場課題

フォトマスクの製造プロセスには、環境に何らかの危険を及ぼす可能性のあるフォトレジストと溶剤など、危険な材料と化学薬品が使用されることがよくあります。廃棄物処理、排出、環境安全性に関する規制の強化に伴い、メーカーのコンプライアンスコストが大幅に上昇し、レーザーフォトマスク市場の成長にとって大きな障壁となっています。

競争力ランドスケープ

レーザーフォトマスク業界の概要と競争のランドスケープ

SDKI Analyticsの調査者によると、レーザーフォトマスク市場見通しは、大企業と中小規模の組織といったさまざまな規模の企業間の市場競争により細分化されています。調査報告書では、市場関係者は製品や技術の発売、戦略的パートナーシップ、コラボレーション、買収、拡張など、あらゆる機会を利用して市場全体の見通しでの競争優位性を獲得しています。

当社の調査レポートによると、世界のレーザーフォトマスク市場の成長に重要な役割を果たす主要な主要企業には、KLA Corporation、Applied Materials, Inc.、Photronics, Inc.、Taiwan Mask Corporation、LG Innotekなどが含まれます。 さらに、市場見通しによると、日本のレーザーフォトマスク市場のトップ5プレーヤーは、Lasertec Corporation、HOYA Corporation、NIPPON FILCON CO.、LTD.、TOPPAN Holdings Inc.、SK-Electronics Co., Ltd.などです。この調査には、世界のレーザーフォトマスク市場分析調査レポートにおける詳細な競合分析、企業概要、最近の動向、およびこれらの主要企業の主要な市場戦略が含まれています。

レーザーフォトマスク市場ニュース

• 2024 年 10 月、Mycronic AB は、アジアの既存顧客から SLX マスク ライターの注文を獲得し、成功への一歩を踏み出しました。
• 2024年3月、Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.は、AuRoFUSEを活用した高密度実装向けの金（Au）粒子接合技術を確立しました。