EUVリソグラフィー市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析― エンドユーザー別、機器タイプ別、技術ノード別、光源技術別、及び地域別―世界市場の見通しと予測 2026－2035年
出版日: Nov 2025
- 2020ー2024年
- 2026－2035年
- 必要に応じて日本語レポートが入手可能
品質と信頼の証
EUVリソグラフィー市場エグゼクティブサマリ
1) EUVリソグラフィー市場規模
EUVリソグラフィー市場に関する弊社の調査レポートによると、市場は2026―2035年の予測期間中に複利年間成長率（CAGR）21.5%で成長すると予想されています。来年には、市場規模は739億米ドルに達すると見込まれています。
しかし、弊社の調査アナリストによると、基準年の市場規模は35億米ドルでしました。人口動態と産業の成熟度は、この分野の成長を牽引する主要な要因の一つがあります。
2) EUVリソグラフィー市場の傾向 – 好調な推移を示す分野
SDKI Analyticsの専門家によると、予測期間中に予測されるEUVリソグラフィー市場の傾向には、高NA EUVリソグラフィー、低NA EUVリソグラフィー、光源装置などが含まれます。予測期間中にEUVリソグラフィー市場を牽引すると予想される主要な傾向について、以下に詳細をご紹介します:
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市場セグメント |
主要地域 |
CAGR (2026-2035年) |
主な成長要因 |
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高NA EUVリソグラフィー |
アジア太平洋地域 |
25.2% |
先端ノードのスケーリング、ファブ投資、AIチップの需要 |
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低NA EUVリソグラフィー |
ヨーロッパ |
22.8% |
費用対効果の高いノード、車載エレクトロニクス、研究開発インセンティブ |
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光源装置 |
北米 |
23.5% |
フォトニクスのイノベーション、サプライヤー統合、輸出の伸び |
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光学系及びマスクシステム |
日本 |
24.8% |
精密エンジニアリング、国内サプライヤー、政府補助金 |
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ファウンドリアプリケーション |
アジア太平洋地域 |
25.0% |
IDMの拡大、民生用エレクトロニクス、地域補助金 |
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
3) 市場の定義 – EUVリソグラフィーとは何ですか?
極端紫外線（EUV）リソグラフィは、短波長（13.5nm）の光を用いてシリコンウェーハ上に超微細パターンをエッチングする最先端の半導体製造技術であり、チップの高度な小型化を可能にします。IDM（統合デバイスメーカー）、ファウンドリ、高性能コンピューティングといったニッチな分野で利用されています。半導体製造装置に分類されるEUVリソグラフィーは、光源、ミラー／光学系、マスク基盤などのカテゴリーを含みます。その精度と拡張性により、7nm未満のノードの製造に不可欠な技術となり、AI、5G、車載エレクトロニクスにおけるイノベーションを推進しています。
4) 日本のEUVリソグラフィー市場規模:
日本のEUVリソグラフィー市場は、2026―2035年の間に複利年間成長率（CAGR）19.4%で成長すると予測されています。この成長は、自動車、ロボット工学、民生用電子機器における先進半導体の需要増加に牽引されています。日本の強力な研究開発エコシステムと、ニコンやキヤノンといった主要企業の存在が、市場拡大をさらに後押ししています。
「半導体とデジタル産業戦略」や国内半導体生産への補助金といった政府の施策は、インフラ整備と外国投資の誘致に役立っています。これは特に中小企業の事業立ち上げを支援し、市場全体の成長を支えています。これらの取り組みは、日本の半導体の自立性と国際競争力の強化を目指しています。
- 日本の現地市場プレーヤーの収益機会:
日本の現地市場プレーヤーにとって、EUVリソグラフィー市場に関連するさまざまな収益機会は次のとおりです:
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収益創出の機会 |
主要成功指標 |
主な成長要因 |
市場インサイト |
競争の激しさ |
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部品製造（光学部品、マスク） |
精密エンジニアリング能力 |
高解像度光学系の需要増加 |
精密光学における日本の強みは、地元企業に重要なEUV部品を供給する上で有利な立場を与えています。 |
中程度 |
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材料供給（フォトレジスト、ペリクル） |
高度な化学研究開発 |
半導体の国産化推進 |
JSRや信越化学といった日本企業は、EUVフォトレジストの革新において世界をリードしています。 |
高 |
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ツールメンテナンス及びサポートサービス |
ファブへの近接性 |
国内ファブの拡張 |
地元企業は、日本のファブに導入されているASML装置に対して、迅速な対応サービスを提供できます。 |
低 |
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計測と検査装置 |
Mask |
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学術機関との研究開発連携 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
- 日本のEUVリソグラフィー市場の都道府県別内訳:
以下は、日本におけるEUVリソグラフィー市場の都道府県別の内訳の概要です:
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都道府県 |
CAGR (2026–2035年) |
主な成長要因 |
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神奈川 |
21.5% |
半導体研究開発拠点の存在、東京への近接性、強力な学術連携 |
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広島 |
20.5% |
IDMファブの拡大、政府支援の技術クラスター、熟練したエンジニア人材 |
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大阪 |
20% |
計測と検査機器の成長、精密光学の産業基盤 |
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茨城 |
Mask |
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京都 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
EUVリソグラフィー市場成長要因
弊社の最新のEUVリソグラフィー市場分析調査レポートによると、以下の市場傾向と要因が市場成長の中核的な原動力として貢献すると予測されています:
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半導体の自給自足と地政学的回復力を求める世界的な競争:
先進的な半導体製造、特にEUVベースのプロセスが特定の地域（主に台湾と韓国）に集中していることは、重大な脆弱性として認識されており、米国やEUなどの他の国々は半導体の自給自足を推進しています。EUのチップ法は、2030年までにEUの世界市場シェアを21%に倍増させるために、半導体製造プロセスに430億ユーロの投資を確保しています。
半導体の需要増加と製造プロセスの向上は、米国、EU、アジア太平洋地域の一部などの先進地域でEUVリソグラフィーの成長を促進しています。EUVリソグラフィーでは、AIや5Gなどの需要の高いアプリケーション向けに、より小型で高性能でエネルギー効率の高いチップを製造するための高度な次世代技術が必要です。高度で自給自足の半導体生産により、プロセスが合理化され、市場の成長に影響を与える可能性があります。
-
世界中でエネルギー効率化のニーズが高まっています:
世界のデジタルインフラのエネルギー消費は、環境面及び経済面における重大な制約となりつつあります。こうした状況において、EUVリソグラフィーは、より小型で電力効率の高いトランジスタの開発を可能にするため、極めて重要な役割を果たします。国際エネルギー機関（IEA）の報告書によると、データセンターの総電力消費量は2022年の水準（460TWh）から2026年までに1,000TWh以上に倍増する可能性があり、エネルギー効率の向上が求められます。
AIデータセンターの成長とエネルギー需要を考慮すると、エネルギー効率の高い運用プロセスを求める世界市場において、EUVリソグラフィーの需要は増加すると予想されます。さらに、EUVによってのみ実現可能なこの新しいプロセスノードは、ワット当たりの性能を大幅に向上させることから、デジタル技術の成長とエネルギー消費及び二酸化炭素排出量の急増を切り離すという世界的な取り組みにおいて、EUVは重要なグリーン技術となります。
サンプル納品物ショーケース
- 調査競合他社と業界リーダー
- 過去のデータに基づく予測
- 会社の収益シェアモデル
- 地域市場分析
- 市場傾向分析
レポートの洞察 - EUVリソグラフィー市場の世界シェア
SDKI Analytics の専門家は、EUVリソグラフィー市場の世界シェアレポートに関して、以下のように洞察を共有しています:
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レポートの洞察 |
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2026-2035 年のCAGR |
21.5% |
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2025年の市場価値 |
35億米ドル |
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2035年の市場価値 |
739億米ドル |
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過去のデータ共有 |
過去5年間（2024年まで） |
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将来予測 |
今後10年間（2035年まで） |
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ページ数 |
200＋ページ |
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
EUVリソグラフィー市場セグメンテーション分析
EUVリソグラフィー市場の展望に関連する様々なセグメントにおける需要と機会を説明する調査を実施しました。市場は、エンドユーザー別、機器タイプ別、技術ノード別、光源技術別に分割されています。
エンドユーザー別に基づいて、EUVリソグラフィー市場はさらに統合デバイスメーカー（IDM）、ファウンドリ、ファブレス企業に分割されています。IDMセグメントは2035年までに市場の52.1%を占めると予想されています。IDMは、3nmや2nmといった高度なノードの製造に不可欠なEUVツールを迅速に導入することが可能です。Intel、Samsung、TSMCといったIDMは、世界最高の設備投資能力を有し、高性能コンピューティングやAlチップにおける最新リソグラフィの活用を先導しています。また、ASMLなどの装置サプライヤーとの戦略的提携を通じてイノベーションを推進しています。世界中のIDMファブの成長と5nm以下の技術への需要が成長の原動力となり、EUV市場の方向性に対するIDMの影響力を強めています。
さらに、EUVリソグラフィー市場は、機器タイプ別に基づいて、光源、ミラー／光学系、サブシステム及び制御ユニットに分割されています。EUVリソグラフィーシステムでは、光源が主要な光源とみなされており、特にレーザー生成プラズマ（LPP）は、2035年には装置のタイプセグメントの38.4%を占めると予想されています。LPPは、ハイエンド半導体ノードに不可欠な7nm未満のパターニングを可能にする高い光子エネルギーを生成するために使用されます。
光源の出力と安定性の向上は、ウェーハスループットの向上と欠陥の低減に直接つながるため、システム動作の焦点となっています。LPP技術の活発な研究、より高度なファブにおける大量生産の需要の増加、そしてフォトニクスとプラズマ物理学の研究への政府資金は、ASMLの成長を牽引しています。これらすべてが、EUVリソグラフィー開発の基盤としての光源の強化に貢献しています。
以下は、EUVリソグラフィー市場に該当するセグメントのリストです:
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親セグメント |
サブセグメント |
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エンドユーザー別 |
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機器タイプ別 |
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技術ノード別 |
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光源技術別 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
世界のEUVリソグラフィー市場の調査対象地域:
SDKI Analyticsの専門家は、EUVリソグラフィー市場に関するこの調査レポートのために、以下の国と地域を調査しました:
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地域 |
国 |
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北米 |
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ヨーロッパ |
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アジア太平洋地域 |
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ラテンアメリカ |
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中東とアフリカ |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
EUVリソグラフィー市場の制約要因
世界のEUVリソグラフィー市場における大きな制約要因は、装置とインフラに必要な高額な設備投資です。EUVシステムは数億ドルにも及ぶ場合があり、導入は大規模メーカーに限られています。この経済的障壁は、小規模企業の参入を遅らせ、業界全体の規模拡大を鈍化させます。さらに、EUVの統合は複雑なため、専門的な設備と人材が必要となり、導入のボトルネックとなり、半導体エコシステム全体への技術普及のペースを鈍化させています。
EUVリソグラフィー市場 歴史的調査、将来の機会、成長傾向分析
EUVリソグラフィー製造業者の収益機会
世界中のEUVリソグラフィー製造業者に関連する収益機会の一部を以下に示します:
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機会領域 |
対象地域 |
成長要因 |
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先端ノードチップ製造 |
北米 |
AI、HPC、5Gチップの需要増加、IDMによる積極的なファブ拡張 |
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ファブレス企業向けファウンドリサービス |
東南アジア |
ファブレススタートアップの急増、半導体アウトソーシングに対する地域的なインセンティブ |
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EUV装置の供給と統合 |
ヨーロッパ |
ASMLの優位性、EUが支援する半導体主権に関する取り組み |
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フォトレジスト及びマスク材料の供給 |
Mask |
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EUV対応計測装置 |
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研究開発及びIPライセンス |
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アフターマーケットサービスとアップグレード |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
EUVリソグラフィーの世界シェア拡大のための実現可能性モデル
弊社のアナリストは、EUVリソグラフィー市場の世界シェアを分析するために、世界中の業界専門家が信頼し、適用している有望な実現可能性モデルをいくつか提示しました:
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実現可能性モデル |
地域 |
市場成熟度 |
医療システムの構造 |
経済発展段階 |
競争環境の密度 |
適用理由 |
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PESTLE分析 |
北米 |
成熟 |
先進的かつ民営化 |
開発済み |
高 |
半導体ハブにおけるEUV導入に影響を与える政治的及び技術的要因を捉えます |
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ポーターのファイブフォース分析 |
東アジア |
新興から成熟へ |
ユニバーサルかつ技術統合型 |
開発済み |
非常に高 |
日本や韓国などの地域におけるサプライヤーの力と競争の激しさを評価します |
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SWOTフレームワーク |
東南アジア |
新興 |
官民混合型 |
開発中 |
中 |
現地のEUV市場参入企業にとっての社内能力と外部からの脅威を評価します |
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市場準備度指数（MRI） |
Mask |
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技術導入ライフサイクル |
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費用便益分析（CBA） |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
市場傾向分析と将来予測：地域市場の見通しの概要
➤北米のEUVリソグラフィー市場規模:
北米のEUVリソグラフィー市場は、予測期間を通じて世界のEUVリソグラフィー市場で第2位の市場シェアを確保すると予測されています。
この地域市場の成長は、AIとデータセンターの拡大によって支えられています。AIワークロードとハイパースケールデータセンターの急速な増加は、効率性と密度を高めるためにEUV対応ノードを必要とする高性能チップの需要を加速させています。
さらに、市場の成長はインフラの拡大によって支えられています。アリゾナ、テキサス、ニューヨークなどの北米の都市では、新しい製造施設の建設への投資が増加しており、EUVツールとサポートシステムの需要が増加しています。さらに、北米メーカーは、光学系、光源、レジストなどのEUVコンポーネントの現地サプライチェーンを構築し、海外サプライヤーへの依存度を低減しています。
- 北米のEUVリソグラフィー市場の市場強度分析:
北米のEUVリソグラフィー市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです:
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カテゴリー |
米国 |
カナダ |
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市場の成長可能性 |
強力 |
強力 |
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規制環境の複雑さ |
複雑 |
標準 |
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価格体系 |
市場主導 |
ハイブリッド |
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熟練人材の確保 |
Mask |
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標準及び認証フレームワーク |
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イノベーションエコシステム |
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技術統合率 |
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市場参入障壁 |
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投資環境 |
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サプライチェーンの統合 |
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競争の激しさ |
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顧客基盤の高度化 |
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インフラ整備状況 |
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貿易政策の影響 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
➤ヨーロッパのEUVリソグラフィー市場規模:
EUVリソグラフィー市場の市場調査と分析により、予測期間中、この地域の市場は世界市場において持続的な成長を遂げると見込まれていることが明らかになりました。
市場は、先端半導体ノードに対する需要の増加によって牽引されています。ヨーロッパの産業、特に自動車、航空宇宙、民生用電子機器は、7nmノードで製造されるチップの需要が高まっていることが分かっています。先端ノードに対する需要の増加は、地域全体でEUVリソグラフィーの採用を加速させています。
さらに、市場の成長は、規制と環境基準によって支えられています。ヨーロッパ連合（EU）は、よりクリーンでエネルギー効率の高いリソグラフィプロセスの開発を促進する厳格な環境規制を課していることが判明しています。これは、EUのより広範な持続可能性目標と一致しています。
- ヨーロッパのEUVリソグラフィー市場の市場強度分析:
ヨーロッパのEUVリソグラフィー市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです:
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カテゴリー |
イギリス |
ドイツ |
フランス |
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市場の成長可能性 |
高 |
高 |
中程度 |
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規制環境の複雑さ |
中 |
中 |
中程度 |
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価格体系 |
プレミアム |
プレミアム |
競争力 |
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熟練人材の確保 |
Mask |
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標準及び認証フレームワーク |
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イノベーションエコシステム |
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技術統合率 |
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市場参入障壁 |
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投資環境 |
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サプライチェーンの統合 |
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競争の激しさ |
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顧客基盤の高度化 |
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インフラ整備状況 |
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貿易政策の影響 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
➤アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー市場規模:
アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー市場は、世界のEUVリソグラフィー市場で45%を超える圧倒的な市場シェアを獲得し、主導的な地位を占めると予想されています。また、この地域の市場は、予測期間を通じて18.2%のCAGRで成長し、世界市場で最も急速に成長する地域になると予想されています。
5nm及び3nmノードをサポートするために、EUV対応の製造施設への投資を増やしています。これらのファブの拡大は、国家半導体戦略と数十億ドル規模の補助金によって支えられています。韓国は、政府支援による半導体イニシアチブ、高度なサプライチェーンエコシステム、そして積極的なEUV導入により、地域市場において支配的な地位を維持すると予測されています。
- アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー市場の市場強度分析:
アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです:
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カテゴリー |
日本 |
韓国 |
インド |
マレーシア
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中国 |
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市場の成長可能性 |
高 |
非常に高 |
高 |
中程度 |
高 |
|
規制環境の複雑さ |
中 |
高 |
中 |
低 |
中 |
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価格体系 |
プレミアム |
競争力がある |
コスト重視 |
競争力 |
プレミアム |
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熟練人材の確保 |
Mask |
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|
標準及び認証フレームワーク |
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イノベーションエコシステム |
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技術統合率 |
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市場参入障壁 |
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投資環境 |
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サプライチェーンの統合 |
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競争の激しさ |
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顧客基盤の高度化 |
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インフラ整備状況 |
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貿易政策の影響 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
EUVリソグラフィー業界概要と競争ランドスケープ
EUVリソグラフィー市場のメーカーシェアを独占する世界トップ10の企業は次のとおりです:
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会社名 |
本社所在地 |
EUVリソグラフィーとの関係 |
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ASML |
オランダ |
EUVリソグラフィーシステムの唯一のサプライヤー |
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KLA Corporation |
米国 |
EUVマスク検査及び計測ツール |
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Vistec Electron Beam |
ドイツ |
EUV対応電子ビームリソグラフィシステム |
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SCREEN Semiconductor Solutions |
Mask |
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SÜSS MicroTec |
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Applied Materials |
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Lam Research |
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Veeco Instruments |
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Tata Elxsi |
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SilTerra Malaysia |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析及び企業ウェブサイト
EUVリソグラフィーの世界及び日本の消費者上位10社は次のとおりです：
| 主要消費者 | 消費単位（数量） | 製品への支出 – 米ドル価値 | 調達に割り当てられた収益の割合 |
|---|---|---|---|
| Apple Inc. |
|
||
| Qualcomm Inc. | |||
| Samsung | |||
| Samsung | |||
| Samsung | |||
| Samsung | |||
| Honeywell | |||
| Samsung | |||
| Samsung | |||
| Samsung | |||
世界及び日本におけるEUVリソグラフィー市場に関連する最近の商業的発売及び技術の進歩の一部を以下に示します:
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会社名 |
事業状況 |
EUVリソグラフィーとの関係 |
|
Canon Inc. |
日本発祥 |
EUV露光システム開発 |
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Nikon Corporation |
日本発祥 |
EUVリソグラフィー光学系及びステッパー |
|
Toppan Photomask |
日本発祥 |
EUVフォトマスク製造 |
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Dai Nippon Printing |
Mask |
|
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Hitachi High-Tech |
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Tokyo Electron |
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Ushio Inc. |
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Advantest Corp. |
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Kyocera Corp. |
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|
Sumitomo Electric |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析及び企業ウェブサイト
EUVリソグラフィー 市場 包括的企業分析フレームワーク
市場内の各競合他社について、次の主要領域が分析されます EUVリソグラフィー 市場:
- 会社概要
- リスク分析
- 事業戦略
- 最近の動向
- 主要製品ラインナップ
- 地域展開
- 財務実績
- SWOT分析
- 主要業績指標
EUVリソグラフィー市場最近の開発
世界及び日本におけるEUVリソグラフィー市場に関連する最近の商用化と技術進歩のいくつかは次のとおりです:
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日付 |
会社名 |
発売の詳細 |
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2023年12月 |
ASML |
ASMLは、高NA EUVリソグラフィーシステム「Twinscan EXE:5000」の初号機を出荷したと発表しました；この初号機は、顧客施設での最終組み立てと統合を目的とした試作モデルでした。 |
|
2025年2月 |
Gigaphoton |
Gigaphotonは、SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025（2月23―27日、サンノゼ）への出展を発表しました；同展示会では、EUV及びDUVリソグラフィ技術における主要なイノベーションを発表します；注目すべき発表内容としては、歩留まりとスループットを向上させる改良型ArF液浸光源、半導体パッケージング向けの先進的なDUVソリューション、マスク検査用EUV光源の最新情報などが挙げられます。また、検査用LPP-EUVと高繰り返しレーザー技術に関する6つの技術論文も発表します。 |
ソース：各社プレスリリース
目次
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