フォトレジスト化学品市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析―化学組成別、アプリケーション別、純度レベル別、最終用途産業別、及び地域別―世界市場の見通しと予測 2026－2035年

フォトレジスト化学品市場分析

フォトレジスト化学品という化学物質は何ですか？

フォトレジスト化学品は、フォトリソグラフィーにおいて半導体のパターン形成に用いられる感光性ポリマーです。紫外線（UV）または極端紫外線（EUV）を照射することで溶解性が変化し、精密な回路エッチングが可能になります。光照射に対する反応性に基づいて、ポジ型とネガ型に分類されます。

フォトレジスト化学品市場における最近の傾向は何ですか？

弊社のフォトレジスト化学品市場分析調査レポートによると、以下の市場傾向と要因が市場成長の主要な推進力として貢献すると予測されています。

• 政府資金による構築政府

資金は高度なパッケージングを促進し、大量のフォトレジスト消費量を増加させます。高度なパッケージングは、i線及びDUV厚膜フォトレジストを大量に消費する複数のリソグラフィ工程に依存しています。

2025年1月、米国商務省は「国家先端パッケージング製造プログラム（NAPMP）」に対し、総額14億米ドルの資金配分を確定しました。このうち300 百万米ドルは材料分野に充てられるほか、11億米ドルはNatcastを通じて「NAPMP先端パッケージング実証施設」の運営に割り当てられます。これは、技術の大規模な実用化を推進し、国内におけるパッケージングの大規模生産能力を確立することを明確な目的としたものです。

市場見通しによれば、こうした公的資金は高度なパッケージングの規模拡大を加速させ、リソグラフィの強度を高め、半導体製造プロセス全体における厚膜フォトレジスト材料の世界的な需要を継続的に促進します。

• 国家支援によるウェハー製造能力 –

弊社の調査レポートによると、大西洋をまたぐ半導体分野への投資は、リソグラフィ能力の拡大に加え、フォトレジストの需要をも拡大させています。例えば、2024年8月20日、ヨーロッパ委員会は、ESMCによるドレスデン工場建設に対し、ドイツ政府による50億ユーロの公的支援を承認しました。この新工場は、28/22nm及び16/12nm FinFETプロセスを用い、2029年までに年間最大480,000枚のウェーハを生産する計画です。これは、ヨーロッパにおけるロジック半導体の生産能力を拡大し、複数のノードにわたってウェーハ1枚あたりのリソグラフィ工程数を増加させる、ヨーロッパ初となる「オープンファウンドリ」の事例となります。

さらに米国では、CHIPS法に基づく支援プログラムが、2025年1月17日付けでCorning、Edwards Vacuum、Infineraの各社に対するインセンティブ供与を決定しました。これにより、リソグラフィ及びレジスト関連のエコシステムにとって不可欠である、国内の材料及びパッケージング関連の生産能力が強化されることになります。

こうした協調的な投資は、多ノードにわたるウェーハ生産及びサプライチェーンを拡大させるものであり、その結果として、各地域におけるリソグラフィ工程の集約度（リソグラフィインテンシティ）を高め、長期的かつ世界的なフォトレジスト化学品の消費量を増加させることにつながります

日本の国内企業にとって、フォトレジスト化学品市場における収益創出の可能性のある分野は何か？

フォトレジスト化学品は、国内バリューチェーン全体にわたって、日本の市場プレーヤーに数多くの戦略的機会を提供します。需要の集中は、日本の経済安全保障政策の枠組みによって支えられている、高度なフォトレジストとその上流の原材料に顕著に表れています。Toyo Gosei Co., Ltd.は、経済安全保障促進法供給保証制度に基づき、高度なフォトレジスト原材料の生産拡大のため、2024年11月29日に正式な認定を受けました。総投資額は約211億円、補助金の上限は約70億円で、2027年から2029年の間に生産能力が1.4倍に増強される見込みであり、国内サプライヤーにとって明確な収益成長の道筋が確立されることになります。

これに加え、Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.（TOK）は、郡山市に200億円を超える投資を行い、2026年度下半期に操業開始予定のフォトレジスト新工場を建設中です。この開発により、東北地方は半導体材料の一大拠点としての地位をさらに強化し、関東地方の既存生産拠点を補完することになります。

最後に、これらの取り組みは経済安全保障基金によって支えられており、2023年度補正予算には5,754億円が計上されています。この基金は、大規模な設備投資におけるリスク分担を可能にするとともに、長期的な産業能力拡大を支援します。2027年度までには、新たな国内路線が政策支援を持続的な収益確保へと転換できる態勢を整えているようです。

フォトレジスト化学品市場に影響を与える主な制約要因は何ですか？

厳しい環境規制は、世界のフォトレジスト化学品市場の成長を阻害する大きな要因となり得ります。フォトレジスト化学品には、米国環境保護庁（EPA）の厳しい規制対象となる溶剤や化合物が含まれていることが多くなります。これらの規制を遵守するには生産コストが増加し、製造期間が長引く可能性があるため、規制が緩やかな地域と比べて、企業は事業規模を拡大しにくくなります。

競争力ランドスケープ

SDKI Analyticsの調査員によると、フォトレジスト化学品市場の見通しは、大企業と中小企業といった規模の異なる企業間の市場競争により、細分化されています。調査報告書によると、市場参加者は、製品や技術の発表、戦略的提携、協力、買収、事業拡大など、あらゆる機会を活用して、市場全体の見通しにおいて競争優位性を獲得しようとしています。

フォトレジスト化学品市場で事業を展開する主要な世界の企業はどれですか？

弊社の調査報告書によると、世界のフォトレジスト化学品市場の成長において重要な役割を担う主要企業には、 DuPont、 MicroChem Corp.、 Merck Group (EMD Electronics)、Avantor、LG Chemが含まれます。

フォトレジスト化学品市場で競合する主要な日本企業はどれですか？

市場見通しによると、日本のフォトレジスト化学品市場の上位5社は、JSR Corporation、 TOKYO OHKA KOGYO (TOK)、FUJIFILM Electronic Materials、Shin-Etsu Chemical、Hitachi Chemical (Resonac)などであります。

この市場調査レポートには、世界のフォトレジスト化学品市場分析調査レポートにおける主要企業の詳細な競合分析、企業プロファイル、最近の傾向、及び主要な市場戦略が含まれています。

フォトレジスト化学品市場における最新のニュースや傾向は何ですか？

• 4月– Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.は、群馬県伊勢崎市に半導体材料の新工場を建設する計画を発表しました。この新工場は、フォトレジストを含む半導体リソグラフィ材料の同社4番目の生産拠点となります。
• 2025年2月、Sumitomo Chemicalにおけるフォトレジストの開発と試験設備の拡張計画を発表した。新設備は先端半導体製造を支えるもので、2025年から稼働開始予定があります。