フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析―製品タイプ別、技術別、アプリケーション別、エンドユーザー別、及び地域別―世界市場の見通しと予測 2026－2035年

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場分析

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品とは何ですか?

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場は、半導体ウェハやディスプレイに微細回路パターンを転写するためのフォトリソグラフィー工程で使用される感光性ポリマー（フォトレジスト）及び関連化学物質を供給しています。これは、半導体、プリント回路基板（PCB）、及び微小電気機械システム（MEMS）の製造における基礎プロセスです。

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場の最近の傾向は何ですか?

弊社のフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場分析調査レポートによると、以下の市場傾向と要因が市場成長の中核的な原動力として貢献すると予測されています。

• 政府の政策的インセンティブが半導体製造投資を牽引 –

弊社の調査レポートによると、世界の半導体製造は政策主導の資本支援を受けており、リソグラフィーの基盤となるフォトレジスト材料の需要を押し上げています。例えば、2022年に成立した米国のCHIPS科学法は、製造と研究へのインセンティブと税額控除を合わせて約527億米ドルを承認しています。この法律は、巨額の資金提供と2025年までのプログラム実施により、フォトレジストなどの重要な入力材料を含む国内の製造と材料サプライチェーンを強化します。一方、ヨーロッパチップ法は、EU加盟国全体の半導体生産能力拡大のための法的枠組みを確立しています。これらの数十億ドル規模の政府支援メカニズムは、スループットとウェーハ生産開始数の増加につながる幅広い半導体製造投資と結びついており、ひいてはフォトレジストや補助薬品などの高性能リソグラフィー消耗品の需要拡大につながっています。

• DUVからEUVリソグラフィへの先端ノード移行による特殊フォトレジスト要件のスケーリング –

先端リソグラフィノードへの世界的な移行は、フォトレジストの材料固有の需要を牽引する要因として明確に認識されています。政府がまとめた半導体生産データによると、2024―2025年にかけて次世代製造技術への堅調な投資が見込まれており、これには7nm未満のパターン形成に特殊EUVフォトレジストが不可欠な主要ファブにおけるEUV導入が含まれます。半導体エコシステムデータによると、日本をはじめとする東アジアのサプライヤーが高性能フォトレジスト生産を支配しており、世界中の半導体メーカーを支えています。 この変化は、EUV リソグラフィーでは通常、従来の DUV レジストとは異なる化学物質とパフォーマンス メトリックが必要となるため、ウェーハあたりの高精度レジスト使用量の量的な増加につながります。

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場におけるフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品の輸出に関して、日本の現地企業はどのような利益を得るのですか?

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場は、半導体材料バリューチェーン全体にわたって日本の市場プレーヤーに豊富な機会を提供しています。国連貿易開発会議（UN Comtrade）に基づくWTO/WITSデータによると、2023年、日本は写真用化学製剤HS370790の世界最大の輸出国であり、輸出額は27.9億米ドルでしました。これは、次に大きい輸出国である韓国の 648.8百万米ドルを大きく上回り、世界の半導体及びイメージングサプライチェーンにこれらの前駆体材料を提供する上で日本が中心的な役割を果たしていることを裏付けています。日本政府は、戦略的生産に対する税制優遇措置や、国会に提出された先端半導体製造及び情報処理円滑化に関する法案に基づくイノベーション支援策など、半導体関連の製造競争力を強化するための2024―2025年にかけての立法措置を通じて産業政策を明確に示しました。これは、半導体材料、技術、インフラのための資金を確保することを目的としています。さらに、JSR Corporationなどの日本のフォトレジストメーカーは、2024年公式投資家レポートにおいて、半導体材料における世界のリーダーシップと、先端露光装置及びEUV材料への投資を強調しており、戦略的な輸出志向と技術リーダーシップを示しています。輸出に対する消費税免除などの輸出促進メカニズムは、日本の輸出企業の海外における価格競争力をさらに高めています。日本税関は、輸出品は国内消費税が免除されることを明確にしており、これにより国際輸送される商品の輸出取引コストが削減されます。

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場に影響を与える主な制約は何ですか?

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場における最大の制約は、7nm以下の半導体ノードにおける極限の微細化要求に対応するために、莫大かつ継続的な研究開発投資が必要となることです。これは、材料サプライヤーにとって高い技術的と財務的障壁となっています。

競争力ランドスケープ

SDKI Analyticsの調査者によると、フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品の市場見通しは、大規模企業と中小規模企業といった様々な規模の企業間の市場競争により、細分化されています。調査レポートによると、市場プレーヤーは、製品と技術の投入、戦略的提携、協業、買収、事業拡大など、あらゆる機会を捉え、市場全体の見通しにおいて競争優位性を獲得しようとしています。

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場で事業を展開している世界有数の企業はどれですか?

弊社の調査レポートによると、世界のフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場の成長に重要な役割を果たしている主な主要企業には、 DuPont、Merck KGaA、ALLRESIST、Dongjin Semichem、Honeywellなどが含まれています。

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場で競合している日本の主要企業はどこですか?

市場展望によると、日本のフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場のトップ5企業は、JSR Corporation、Tokyo Ohka Kogyo (TOK)、Shin-Etsu Chemical、Fujifilm、Sumitomo Chemicalなどです。

市場調査レポート研究には、世界的なフォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場分析調査レポートにおける主要企業の詳細な競合分析、企業プロファイル、最近の傾向、主要な市場戦略が含まれています。

フォトレジスト及びフォトレジスト関連製品市場における最新のニュースや傾向は何ですか?

• 2025年12月：FUJIFILM Corporationは、EUV、ArF、KrF、PFASフリーフォトレジストを含む幅広い先端半導体材料のラインアップを展示すると発表しました。セミコンジャパン2025この展示会では、半導体材料に関するワンストップソリューション戦略と日本全国での生産能力の拡大を強調し、次世代半導体製造を支える役割を強化します。
• 2025年9月： JSR Corporationとクロスライセンス及び協力契約を締結 ドライレジストやEUVリソグラフィー技術を含む次世代半導体パターニング材料の開発を目指します。この提携により、JSR/Inpriaのパターニングレジスト及びフィルムと、Lamのエッチング及びドライレジスト成膜技術を統合し、先端ノードの半導体製造をサポートします。