フォトリソグラフィー材料市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析 ― 材料別、補助的な別、アプリケーション別、最終用途産業別、技術ノード別、分布別、地域別―世界市場の見通しと予測 2026－2035年
出版日: Jan 2026
- 2020ー2024年
- 2026－2035年
- 必要に応じて日本語レポートが入手可能
品質と信頼の証
フォトリソグラフィー材料市場エグゼクティブサマリ
1) フォトリソグラフィー材料市場規模
当社のフォトリソグラフィー材料市場調査レポートによると、市場は予測期間（2026―2035年）において複利年間成長率（CAGR）8.6%で成長すると予想されています。2035年には、市場規模は284億米ドルに達すると見込まれています。
しかし、当社の調査アナリストによると、基準年の市場規模は128億米ドルに達しました。EUVリソグラフィの技術進歩、次世代半導体ノードの実現、そして民生用電子機器や車載用半導体の需要増加が、世界市場の主要な成長原動力となっています。
2) フォトリソグラフィー材料市場の傾向 – 好調な推移を示す分野
SDKI Analyticsの専門家によると、予測期間中に予測されるフォトリソグラフィー材料市場の傾向には、EUVフォトレジスト、DUVフォトレジスト、反射防止コーティングなどの分野が含まれます。予測期間中にフォトリソグラフィー材料市場を牽引すると予想される主要な傾向について、以下に詳細をご紹介します。
|
市場セグメント |
主要地域 |
CAGR（2026―2035年） |
主要な成長推進要因 |
|---|---|---|---|
|
EUVフォトレジスト |
アジア太平洋地域 |
8.2% |
先端ノードの採用、ファブの拡張、研究開発投資 |
|
DUVフォトレジスト |
北米 |
5.5% |
レガシーノードの需要、車載用IC、産業用電子機器 |
|
反射防止コーティング |
ヨーロッパ |
6.0% |
規制遵守、光学精度、持続可能性 |
|
開発者ソリューション |
アジア太平洋地域 |
6.3% |
ファブスループット、化学イノベーション、コスト効率 |
|
補助材料 |
ラテンアメリカ |
5.8% |
新興ファブ、サプライチェーンのローカライゼーション、地域インセンティブ |
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
3) 市場定義 – フォトリソグラフィー材料とは何ですか?
フォトリソグラフィー材料市場には、フォトレジスト、反射防止コーティング、現像液、補助製品など、半導体製造におけるフォトリソグラフィー工程で広く使用される特殊な化学薬品や材料の製造・供給を主に手掛けるグローバル企業が含まれます。フォトリソグラフィーは、主に紫外線などの光を用いて、Maskから基板（通常はシリコンウェハ）に幾何学的パターンを転写する微細加工プロセスです。このプロセスは、集積回路、マイクロプロセッサ、プリント回路基板、その他の半導体デバイスの製造に不可欠です。
4) 日本のフォトリソグラフィー材料市場規模:
日本のフォトリソグラフィー材料市場は、2026―2035年の予測期間を通じて6.1%のCAGRで成長すると見込まれています。市場の成長は、再生可能エネルギーとパワーエレクトロニクスの拡大に支えられています。日本の再生可能エネルギーへの移行はパワー半導体の需要を加速させ、フォトレジスト、現像液、反射防止コーティングなどのフォトリソグラフィー材料の採用が増加しています。日本の第7次エネルギー基本計画の報告書によると、日本政府は2040年までに総電力の約40―50%を再生可能エネルギーで賄うという目標を設定しており、グリッド管理、インバータ、エネルギー貯蔵システム向けの高度なパワーICの採用が増加しています。これらのシステムはすべて、リソグラフィーを多用する半導体製造への依存度が高まっています。
- 日本の現地市場プレーヤーの収益機会:
日本の現地市場プレーヤーにとって、フォトリソグラフィー材料市場に関連するさまざまな収益機会は次のとおりです。
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収益創出の機会 |
主要成功指標 |
主な成長推進要因 |
市場洞察 |
競争の激しさ |
|
EUVリソグラフィー用先進フォトレジスト |
製品認定の成功、OEM採用率 |
半導体の小型化、‑ハイエンドチップの需要、ファウンドリ投資 |
日本のサプライヤーは、EUVフォトレジストの主要プレーヤーであり、‑世界のチップメーカーの次世代ノードを実現します。 |
高い |
|
成熟ノード向けArF及びKrFフォトレジスト |
数量増加、歩留まり改善指標 |
車載用チップ、IoTデバイス、産業用電子機器 |
成熟ノードの需要は自動車及び産業用アプリケーションで依然として堅調であり、安定した収益源を維持しています。 |
中 |
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補助材料（現像液、剥離剤、エッジビード除去剤） |
SKUカバレッジ、顧客維持 |
プロセス最適化、歩留まり向上、コスト効率 |
補助材料は、一貫したリソグラフィー性能にとって重要であり、消耗品の継続的な販売をもたらします。 |
中 |
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リソグラフィーと統合されたCMP及び洗浄化学薬品 |
Mask |
|||
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高度な包装のための特殊コーティング |
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|
日本における材料生産の現地化 |
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リソグラフィー用化学薬品のリサイクル及び廃棄物管理ソリューション |
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ファウンドリ及び装置メーカーとの研究開発パートナーシップ |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
- フォトリソグラフィー材料市場の都道府県別内訳：
日本におけるフォトリソグラフィー材料市場の都道府県別の内訳です。
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県 |
複利年間成長率（％） |
主な成長要因 |
|---|---|---|
|
東京 |
6.5% |
R&Dハブ、政府の優遇措置、先進的なファブの存在 |
|
大阪 |
6.0% |
産業基盤、エレクトロニクス産業集積地、熟練労働力 |
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神奈川 |
6.2% |
半導体サプライチェーン、イノベーションセンター、沿岸物流 |
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愛知 |
Mask |
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福岡 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
フォトリソグラフィー材料市場成長要因
当社のフォトリソグラフィー材料市場分析調査レポートによると、以下の市場傾向と要因が市場成長の中核的な原動力として貢献すると予測されています。
-
EUVリソグラフィーの採用が先端材料の需要を牽引:
EUVリソグラフィーは、7nm未満のスケーリングをサポートし、超高感度レジスト、ペリクル、コーティングにおける比類のない必要性を確立することで、半導体製造の国際的な変革を推進しています。その世界的な導入により、デジタルアーキテクチャが強化され、EUVと互換性のある材料のサプライヤーの数が増え、研究開発に基づく参入障壁が高まります。アジア、北米、ヨーロッパ地域でファブが成長していることにより、EUVの能力は、スケール効率とネットワーク効果を通じてイノベーションを加速することを可能にします。半導体アプリケーションでAI、HPC、量子コンピューティングが必要になるにつれて、EUV材料は今後も半導体開発で重要な役割を果たし続けるでしょう。当社の分析によると、フォトリソグラフィー材料の収益は2025年に55億米ドルに達し、EUVレジストが半導体業界の成長とより広範な回復を牽引すると予測されています。
AIとIoTの成長は、数十億台の相互接続されたデバイスによって推進されており、世界中で半導体需要が高まり、より高度なフォトリソグラフィー材料が求められています。AIとIoTエコシステムの急速な拡大により、 2025年までに800億台の接続デバイスに達すると予測されています。 業界におけるデジタルトランスフォーメーションの加速に伴い、ファブはGPU、NPU、エッジデバイスといった高密度チップの生産を拡大しています。グローバルに統合されたIoTエコシステムは、地域間の相乗効果と強力なスケールメリットを生み出し、長期的な材料消費を支えています。AI関連半導体の売上高が上昇するにつれ、フォトレジスト及び関連製品のサプライヤーは、コンシューマー、産業、クラウド市場全体にわたって、長期的かつ幅広い成長を遂げると見込まれています。
サンプル納品物ショーケース
- 調査競合他社と業界リーダー
- 過去のデータに基づく予測
- 会社の収益シェアモデル
- 地域市場分析
- 市場傾向分析
レポートの洞察 - フォトリソグラフィー材料市場の世界シェア
SDKI Analyticsの専門家によると、フォトリソグラフィー材料市場の世界シェアに関連するレポートの洞察は以下のとおりです。
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レポートの洞察 |
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2026―2035年のCAGR |
8.6% |
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2025年の市場価値 |
128億米ドル |
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2035年の市場価値 |
284億米ドル |
|
履歴データの共有 |
過去5年間 2024年まで |
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未来予測は完了 |
2035年までの今後10年間 |
|
ページ数 |
200＋ページ |
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
フォトリソグラフィー材料市場セグメンテーション分析
フォトリソグラフィー材料市場の展望に関連する様々なセグメントにおける需要と機会を説明する調査を実施しました。市場を材料別、補助的な別、アプリケーション別、最終用途産業別、技術ノード別、分布別にセグメントに分割されています。
材料別セグメントには、I線フォトレジスト、KRFフォトレジスト、ARFドライフォトレジスト、ARF液浸フォトレジスト、EUVフォトレジストが含まれます。2035年までに、EUVフォトレジストが38%という最大の市場シェアを占めると予測されています。SEMI World Fab Forecast 2024によると、世界のウェーハ製造能力は月間30百万枚に達し、先進リソグラフィー技術の採用が拡大すると予測されています。
したがって、この調査レポートは、7nm以下の高解像度と効率性を備えたEUVフォトレジスト市場の明るい見通しを示唆しています。 半導体の量産と次世代デバイスの製造をサポートする nm プロセス ノード
補助的な別セグメントには、開発者、反射防止コーティング、エッジビードリムーバー、溶剤が含まれます。現像液は2035年には市場シェアの29%を占めると予想されています。SEMI 2024の統計によると、世界中でフォトリソグラフィープロセスを採用する半導体製造工場が増加しており、補助材料の使用がさらに増加しています。
調査レポートによると、開発者はウェーハ製造における正確なパターン形成と限界寸法制御を担うため、市場における見通しは非常に良好です。化学処理と生産における高いスループットにおける彼らの役割は、フォトリソグラフィー材料市場におけるこのサブセグメントの優位性を確固たるものにしています。
以下は、フォトリソグラフィー材料市場に該当するセグメントのリストです。
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親セグメント |
サブセグメント |
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材料別 |
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補助的な別 |
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アプリケーション別 |
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最終用途産業別 |
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技術ノード別 |
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分布別 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
世界のフォトリソグラフィー材料市場で調査された地域：
SDKI Analyticsの専門家は、フォトリソグラフィー材料市場に関するこの調査レポートのために、以下の国と地域を調査しました。
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地域 |
国 |
|
北米 |
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ヨーロッパ |
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アジア太平洋地域 |
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ラテンアメリカ |
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中東及びアフリカ |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
フォトリソグラフィー材料市場の制約要因
フォトリソグラフィー材料の世界的な市場シェアを阻害する大きな要因の一つは、厳格な環境規制です。フォトレジスト、現像液、その他の補助材料に使用される化学物質は一般的に有害であり、ヨーロッパのREACH規則や米国のEPAといった規制機関が施行する厳格な環境基準への適合が求められています。こうした規制上の障壁は生産コストの上昇や製品開発サイクルの遅延を招く可能性があり、企業はより安全な代替品や廃棄物管理システムへの投資をますます強めています。
フォトリソグラフィー材料市場 歴史的調査、将来の機会、成長傾向分析
フォトリソグラフィー材料メーカーの収益機会
フォトリソグラフィー材料メーカーに関連する収益機会の一部は次のとおりです。
|
機会エリア |
対象地域 |
成長の原動力 |
|
先端ノード（≤5nm）向けEUVフォトレジスト |
北米 |
半導体工場、次世代ロジック及びメモリチップ向けEUVリソグラフィーを拡大 |
|
低欠陥ArF液浸レジスト |
ヨーロッパ |
自動車及び産業用半導体アプリケーションにおける精密材料の需要 |
|
レガシーノード向けのコスト効率の高いKrFレジスト |
アジア太平洋地域 |
成熟したリソグラフィー材料を必要とする民生用電子機器及び中規模ICの大規模生産 |
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特殊パッケージング用フォトレジスト |
Mask |
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過酷な環境に耐える耐久性の高いフォトリソグラフィー材料 |
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高度な反射防止コーティング（BARC） |
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グリーン/環境に優しいフォトリソグラフィー材料 |
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IoT及びMEMS向けフォトレジスト |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
フォトリソグラフィー材料シェアの世界的拡大に向けた実現可能性モデル
当社のアナリストは、フォトリソグラフィー材料市場の世界シェアを分析するために、世界中の業界専門家が信頼し、適用している有望な実現可能性モデルをいくつか提示しました。
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実現可能性モデル |
地域 |
市場成熟度 |
経済発展段階 |
競争環境の密度 |
適用理由 |
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EUVイノベーションモデル |
北米 |
成熟した |
発展した |
高い |
強力な研究開発エコシステムと大手ファブ（インテル、マイクロン）がEUV材料の採用を促進 |
|
持続可能性コンプライアンスモデル |
ヨーロッパ |
成熟した |
発展した |
高い |
EU規制は環境に優しいフォトリソグラフィー材料を優遇 |
|
レガシーノードのコスト効率モデル |
アジア太平洋地域 |
新興 |
新興 |
高い |
大規模工場（TSMC、サムスン）は成熟ノードで大量生産を継続しています |
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OSATパッケージングモデル |
Mask |
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耐久性向上モデル |
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収量最適化モデル |
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高度な製造統合モデル |
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IoT/MEMS特化モデル |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
市場傾向分析と将来予測：地域市場の見通しの概要
➤北米のフォトリソグラフィー材料市場規模：
北米のフォトリソグラフィ市場は成長を続けており、その需要は国内の半導体製造量と技術進歩に直結しています。強靭な半導体サプライチェーン構築に向けた戦略的な取り組みは、北米における新たな先進的な製造工場（ファブ）の建設に直接結びついており、予測期間中の市場は6%の複利年間成長率（CAGR）を達成すると予測されています。2024年には米国が世界の半導体売上高のリーダーとなり、米国に本社を置く企業は世界売上高の50.4%を占め、世界市場における優位性を確立しました。
これに加え、防衛・航空宇宙分野の電子機器の近代化は、運用プロセスにおける高信頼性半導体の需要増加に伴い、市場の成長要因の一つとなっています。高モード半導体チップは、高収益のフォトリソグラフィー材料を安定的に供給する専用工場で生産されており、市場に強い需要を生み出しています。
- 北米のフォトリソグラフィー材料市場の強度分析：
北米のフォトリソグラフィー材料市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです。
|
カテゴリ |
米国 |
カナダ |
|
市場の成長可能性 |
強い |
中程度（ニッチ主導型） |
|
規制環境の複雑さ |
複雑な |
標準 |
|
価格体系 |
市場主導型 |
市場主導型 |
|
熟練した人材の可用性 |
Mask |
|
|
標準及び認証フレームワーク |
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|
イノベーションエコシステム |
||
|
技術統合率 |
||
|
市場参入障壁 |
||
|
投資環境 |
||
|
サプライチェーン統合 |
||
|
競争の激しさ |
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|
顧客基盤の高度化 |
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インフラの準備 |
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|
貿易政策の影響 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
➤ヨーロッパのフォトリソグラフィー材料市場規模：
ヨーロッパ市場における半導体製造能力の向上は、フォトリソグラフィー材料の需要に影響を与えています。EUチップ法は、新規及び拡張された半導体製造工場の建設に直接資金を提供する主要な推進力であり、予測期間中の市場成長を6.1%のCAGRで確実に保証します。EUチップ法は、2030年までにEUの半導体世界市場シェアを20%に倍増させることを目指し、430億ユーロを超える官民投資を動員します。この投資増加は、製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー材料に対する短期的かつ長期的な需要を生み出します。
これに加えて、EVの普及拡大は、特に電源管理IC（PMIC）、マイクロコントローラー（MCU）、センサーなど、車両1台あたりに必要なチップ数が大幅に増加するため、市場における半導体需要を刺激しています。これにより、フォトリソグラフィー材料の需要が大きく高まり、市場の成長が確実視されています。
- ヨーロッパのフォトリソグラフィー材料市場の強度分析：
市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです。
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カテゴリ |
イギリス |
ドイツ |
フランス |
|
市場の成長可能性 |
中程度（ニッチ） |
強い |
強い |
|
規制環境の複雑さ |
複雑な |
複雑な |
複雑な |
|
部品供給リスク |
高い |
適度 |
適度 |
|
製造及びEMS能力 |
Mask |
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|
熟練した人材の可用性 |
|||
|
標準及び認証フレームワーク |
|||
|
イノベーションエコシステム |
|||
|
技術統合率 |
|||
|
市場参入障壁 |
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投資環境 |
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|
サプライチェーン統合 |
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競争の激しさ |
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持続可能性と電子廃棄物への対応 |
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貿易政策の影響 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
➤ アジア太平洋地域のフォトリソグラフィー材料市場規模：
アジア太平洋地域は、フォトリソグラフィー材料の消費と生産の面で強力かつ発展した市場であり、2035年には世界市場の40%のシェアを獲得する見込みです。半導体製造能力の集中化、電子機器に対する国内の旺盛な需要、そして技術優位をめぐる国内の熾烈な競争により、予測期間中の複利年間成長率（CAGR）は6.4%と予測され、市場の成長が加速しています。
米国半導体工業会（SIA）は、世界の半導体製造能力の約75%が中国と東アジアに集中しており、この地域の優位性を示していると強調しました。中国、韓国、日本、台湾は、サプライチェーンの主権確保のため、国家政策としてファブ拡張に積極的な資金提供を行っており、フォトリソグラフィー材料の需要が高まっています。
- アジア太平洋地域のフォトリソグラフィー材料市場の強度分析：
アジア太平洋地域のフォトリソグラフィー材料市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです。
|
カテゴリ |
日本 |
韓国 |
マレーシア |
中国 |
インド |
|
市場の成長可能性 |
強い |
強い |
適度 |
強い |
強い（低いベースから） |
|
半導体製造の強み |
高い |
高い |
中 |
高い |
低い |
|
家電製品の需要 |
中 |
高い |
中 |
高い |
高い |
|
輸出志向 |
Mask |
||||
|
地域インセンティブ支援 |
|||||
|
R&Dエコシステムの強さ |
|||||
|
IoT導入レベル |
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5Gのカバレッジと影響 |
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政策と貿易支援 |
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|
サプライチェーン統合 |
|||||
|
市場参入障壁 |
|||||
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
フォトリソグラフィー材料業界概要と競争ランドスケープ
メーカーシェアを支配する世界トップ10の企業は次のとおりです。
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会社名 |
本社所在地国 |
フォトリソグラフィー材料との関係 |
|
DuPont |
米国 |
先進的なフォトレジストとリソグラフィー材料を供給 |
|
Dow Inc. |
米国 |
フォトリソグラフィー用化学薬品及び現像液を提供します |
|
Merck Group (EMD) |
ドイツ |
フォトレジスト、反射防止コーティング、補助材料を提供 |
|
BASF SE |
Mask |
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|
Avantor |
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|
LG Chem |
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SK Materials |
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TCI Chemicals |
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Silterra Malaysia |
||
|
Alchemie Pty Ltd |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析と企業ウェブサイト
フォトリソグラフィー材料の世界及び日本の消費者上位10社は次のとおりです。
| 主要消費者 | 消費単位（数量） | 製品への支出 – 米ドル価値 | 調達に割り当てられた収益の割合 |
|---|---|---|---|
| JSR Corporation |
|
||
| Tokyo Ohka Kogyo (TOK) | |||
| XXXX | |||
| XXXXX | |||
| xxxxxx | |||
| xxxxxxxx | |||
| xxxxx | |||
| xxxxxxxx | |||
| xxxxxx | |||
| XXXXX | |||
日本フォトリソグラフィー材料市場メーカーシェアでトップ10を占める企業は次のとおりです。
|
会社名 |
事業状況 |
フォトリソグラフィー材料との関係 |
|
Tokyo Ohka Kogyo |
日本原産 |
フォトレジスト及びリソグラフィー材料の大手サプライヤー |
|
JSR Corporation |
日本原産 |
EUV及びDUVリソグラフィー用の高度なフォトレジストを製造 |
|
Shin-Etsu Chemical |
日本原産 |
フォトリソグラフィーレジストを含む半導体材料を提供 |
|
Sumitomo Chemical |
Mask |
|
|
Fujifilm Electronic Materials |
||
|
Hitachi Chemical |
||
|
Mitsubishi Gas Chemical |
||
|
Nichigo-Morton |
||
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ADEKA Corporation |
||
|
Nippon Kayaku |
||
ソース: SDKI Analytics 専門家分析と企業ウェブサイト
フォトリソグラフィー材料 市場 包括的企業分析フレームワーク
市場内の各競合他社について、次の主要領域が分析されます フォトリソグラフィー材料 市場:
- 会社概要
- リスク分析
- 事業戦略
- 最近の動向
- 主要製品ラインナップ
- 地域展開
- 財務実績
- SWOT分析
- 主要業績指標
フォトリソグラフィー材料市場最近の開発
世界及び日本におけるフォトリソグラフィー材料市場に関連する最近の商業的発売及び技術の進歩の一部は次のとおりです。
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日付 |
会社名 |
発売の詳細 |
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2025年11月 |
DuPont |
DuPontは、ドイツのデュッセルドルフで開催されたA+A 2025において、着用者が職場で感じる快適さと安全性を変革するように設計された新しい使い捨て化学衣料用生地、Tyvek APXを発表しました。 |
|
2024年10月 |
Fujifilm Electronic Materials |
Fujifilmは、先端半導体製造プロセスで使用されるEUVリソグラフィー用のネガ型レジスト及び現像液の販売を開始した。 |
ソース：名社プレスリリース
目次
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よくある質問
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品質と信頼の証
