極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場調査レポート、規模とシェア、成長機会、及び傾向洞察分析― エンドユーザー別、機器タイプ別、技術ノード別、アプリケーション別、及び地域別―世界市場の見通しと予測 2025－2035年
出版日: Oct 2025
- 2020ー2024年
- 2025－2035年
- 必要に応じて日本語レポートが入手可能
品質と信頼の証
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場エグゼクティブサマリ
1)極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関する当社の調査レポートによると、市場は2025ー2035年の予測期間中に、年平均成長率（CAGR）16.4%で成長すると予測されています。2035年には、市場規模は649億米ドルに達すると予想されています。
しかし、当社の調査アナリストによると、基準年の市場規模は112億米ドルでしました。この市場は、民生用電子機器、AI、自動車など、様々な産業分野における先端半導体の需要拡大によって特徴づけられており、チップ製造における小型化のためのEUVリソグラフィの導入に対する政府による多大な支援によって、需要はさらに拡大しています。
2)極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の傾向 – プラスの軌道を辿る分野
SDKI Analyticsの専門家によると、予測期間中に観察される極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の傾向には、EUVステッパーと光源、フォトマスクとマスクブランク、フォトレジストとプロセス材料、サービスとメンテナンス、計測とリソグラフィ検証ソフトウェアなどが含まれます。予測期間中に極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場をリードする主要な傾向に関する詳細情報については、既にお伝えしています:
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市場セグメント |
主要地域 |
CAGR（2025ー2035年） |
主要な成長要因 |
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EUVステッパーと光源（装置） |
アジア太平洋地域 |
8.5% |
ノードの複雑性増大、高額な設備投資を伴うファブ拡張、ソーステクノロジーのアップグレード |
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フォトマスクとマスクブランクス |
北米 |
7.0% |
製品あたりのマスク枚数増加、サプライチェーンのローカライゼーション、高度なブランク品質のニーズ |
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フォトレジストとプロセス材料 |
アジア太平洋地域 |
9.0% |
レジスト層需要の増加、スループット向上のための材料革新、現地での材料調達 |
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サービスとメンテナンス |
北米 |
7.5% |
アップタイムクリティカルな保守契約、フィールドサービスの拡大、予知保全の導入 |
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計測とリソグラフィ検証ソフトウェア |
ヨーロッパ |
6.5% |
計測精度要件、ファブとの統合、EDA/自動化ツールの需要 |
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
3) 市場の定義 – 極端紫外線（EUV）リソグラフィとは何ですか?
極端紫外線（EUV）リソグラフィとは、高度な半導体の製造に特化した技術です。次世代マイクロチップは、高精度で高密度な回路基板の製造を可能にするEUVリソグラフィの技術を用いて開発されています。EUVリソグラフィは、極めて微小な紫外線を用いてシリコンウエハ上に微細で高密度な回路をエッチングするという原理を採用しています。EUVリソグラフィは、高度なロジックノード、高性能CPU、5Gと6G通信チップセットの製造に広く利用されています。
4)日本の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模：
SDKI Analyticsの専門家は、日本の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場が今後数年間で年平均成長率（CAGR）18.4%と大幅に加速すると予測しています。この成長は、エレクトロニクス業界や自動車業界における先端半導体への旺盛な需要によるものです。日本には、Canon、Nikon、Lasertecといった大手企業が拠点を構え、EUV関連技術の開発においてリーディングカンパニーとして位置づけられています。また、複数の都道府県にまたがる複数の半導体装置製造拠点や地域イノベーション拠点も市場の成長を牽引しています。さらに、経済安定促進法や経済産業省の補助金といった政府による強力な支援も市場の成長を後押ししています。
- 日本の現地市場プレーヤーの収益機会:
日本の現地市場プレーヤーにとって、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関連するさまざまな収益機会は次のとおりです:
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収益創出の機会 |
主要成功指標 |
主な成長要因 |
市場洞察 |
競争の激しさ |
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EUVスキャナー販売（新システム） |
インストールベースの成長、長期購入契約 |
先端ノードへの移行、ファウンドリ投資サイクル、政府の研究開発インセンティブ |
調達の決定は、国の半導体政策とファウンドリ事業拡大戦略に大きく影響され、バイヤーは実績のある装置サプライヤーを優先します。 |
高 |
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フィールドサービスと保守契約 |
契約更新率、顧客満足度指数 |
インストールベースの拡大、稼働率要件、熟練したサービス人材 |
サービスパートナーシップは長期的な関係として重視され、日本のファブは信頼性、迅速な対応、そして現場での専門知識を重視しています。 |
高 |
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スペアパーツと消耗品の供給 |
交換頻度、現地調達の導入 |
継続的なファブ稼働率、サプライチェーンのレジリエンス、ライフサイクルにおける交換需要 |
顧客は、地域密着型の供給ネットワークと予測可能な納期を好み、重要な部品の入手性におけるリスク軽減を優先しています。 |
中 |
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EUV用フォトレジストと材料 |
Mask |
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フォトマスクとマスクブランクス |
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計測と検査サービス |
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ソフトウェアと自動化ソリューション |
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レトロフィットとローカリゼーションサービス |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
- 日本の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の都道府県別内訳：
以下は、日本における極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の都道府県別の内訳の概要です:
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都道府県 |
CAGR (%) |
主な成長要因 |
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東京 |
8.5% |
研究開発と本社機能の集中、先進的なファブ／サービスプロバイダー、材料と計測機器ベンダーへの近接性 |
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大阪 |
7.8% |
強固な製造基盤、半導体装置サプライヤー、熟練したエンジニアリング人材 |
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神奈川 |
Mask |
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愛知 |
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福岡 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場成長要因
当社の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場分析調査レポートによると、以下の市場傾向と要因が市場成長の中核的な原動力として貢献すると予測されています:
- 複数の業界における先端半導体の世界的な需要の高まり：先端半導体は、民生用電子機器、自動車、人工知能（AI）、通信など、複数の分野で必要とされています。5Gネットワーク、IoTデバイス、AIアプリケーションなどのサービスの増加が、電力効率の高いチップの需要を牽引しており、これらの技術は極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の発展を牽引する重要な要素となっています。
ASMLなどの企業は、独自の特殊EUVリソグラフィ技術を用いて最先端のマイクロチップを量産しており、EXEシステムを使用することで、優れたコントラストとわずか8nmの解像度での印刷を実現しています。EUVで製造されたチップのかつてない成長は、バリューチェーンに大きな影響を与え、市場の発展をさらに促進しています。
- 世界各国の政策支援と政府の取り組み：半導体産業は世界中で飽くなき需要に直面しており、国際的なプレーヤーの中で主導権を獲得することが極めて重要です。これを支援するために、世界各国政府は、EUV能力の強化に向けて、様々な補助金プログラム、税制優遇措置、そして官民両セクターへの投資を戦略的に導入しています。これにより、市場は急成長を遂げ、その成長に大きく貢献しています。
米国チップス法は、米国における半導体生産に約520億米ドルと推定される多額の支援を提供しており、そのうち約800百万米ドルは、ニューヨークのEUV加速器向けにNSTC施設に割り当てられています。
サンプル納品物ショーケース
- 調査競合他社と業界リーダー
- 過去のデータに基づく予測
- 会社の収益シェアモデル
- 地域市場分析
- 市場傾向分析
レポートの洞察 - 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の世界シェア
SDKI Analyticsの専門家によると、以下は極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の世界シェアに関するレポートの洞察です:
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レポートの洞察 |
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CAGR |
16.4% |
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2024年の市場価値 |
112億米ドル |
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2035年の市場価値 |
649億米ドル |
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過去のデータ共有 |
過去5年間（2023年まで） |
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将来予測 |
今後10年間（2035年まで） |
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ページ数 |
200+ページ |
ソース: SDKI Analytics 専門家分析
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場セグメンテーション分析
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の見通しに関連する様々なセグメントにおける需要と機会を説明する調査を実施しました。市場をエンドユーザー別、機器タイプ別、技術ノード別、アプリケーション別にセグメント化しました。
当社の調査によると、極端紫外線（EUV）リソグラフィは、エンドユーザー別に基づいて、統合デバイスメーカー、鋳造所、メモリメーカー（DRAM、NAND）に分割されています。これらの下位セグメントの中で、鋳造所は60%という驚異的な収益シェアを記録し、予想される期間内にセグメントをリードすると見込まれています。
このポジショニングは、ますます多くのチップメーカーが市場に参入するにつれて、EUVリソグラフィを採用した先端ノードの需要が高まっていることに起因しています。鋳造所は、多面的な事業を展開する多数のファブレス顧客に対応する一方で、主にアクチニックマスク検査、ペリクル開発、そしてEUVベース技術の拡張性向上に役立つ研究に投資しており、これが市場全体の成長を牽引しています。.
機器タイプ別に基づいて、極端紫外線（EUV）市場は、露光システム、光源、光学系、マスクとマスク基盤、レジストと材料、計測と検査、補助サブシステムサブセグメントに分割されています。これらのうち、露光システムは今後数年間、このセグメントを支配し、65%の市場シェアを占めるでしょう。
露光システムはEUVリソグラフィ装置における中核的な資本資産であり、産業界が高NA EUVに移行するにつれて、スキャナーなどのこれらのシステムの重要性はさらに高まっています。次世代スキャナーは従来のものよりもさらに小さなロジックノード（約2nmと推定）を必要とするため、高度な露光ツールの需要が急増し、市場の成長を牽引しています。以下は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に該当するセグメントのリストです:
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親セグメント |
サブセグメント |
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エンドユーザー別 |
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機器タイプ別 |
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技術ノード別 |
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アプリケーション別 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の調査対象地域：
SDKI Analyticsの専門家は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関するこの調査レポートのために、以下の国と地域を調査しました:
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地域 |
国 |
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北米 |
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ヨーロッパ |
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アジア太平洋地域 |
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ラテンアメリカ |
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中東とアフリカ |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の制約要因
極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界的な市場シェアを制約する大きな要因の一つは、コアスキャナーの設備投資額と単価の高騰です。EUVスキャナー、特に先進的な低開口数（NA）システムや今後登場する高開口数（NA）システムを搭載したスキャナーの単価は、一般的に非常に高額であり、新規参入企業や潜在顧客にとって購入が困難な場合があります。さらに、様々なユニットの納入によってバックログが発生し、小規模企業の市場参入が非常に制限されることで、市場の成長が阻害される可能性があります。
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場 歴史的調査、将来の機会、成長傾向分析
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極端紫外線（EUV）リソグラフィメーカーの収益機会
世界中の極端紫外線（EUV）リソグラフィメーカーに関連する収益機会の一部を以下に示します:
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機会分野 |
対象地域 |
成長の原動力 |
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先端ロジック向け高開口数EUVの採用 |
北米 |
強力なイノベーション エコシステムとIDM主導の研究開発の集中 |
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AI/5Gチップ向け先進ファウンドリのスケーリング |
アジア太平洋地域 |
半導体製造拠点における地域的優位性 |
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EUVマスクとペリクルインフラ |
ヨーロッパ |
光学と精密材料における強力なサプライヤー基盤 |
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EUVレジストと材料の拡充 |
Mask |
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メモリノード移行（DRAM、NAND） |
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計測と検査ソリューション |
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リソグラフィツールのサプライチェーンのローカライゼーション |
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補助サブシステム（真空、汚染制御） |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
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極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界的なシェア拡大に向けた実現可能性モデル
当社のアナリストは、世界中の業界専門家が信頼し、適用している有望な実現可能性モデルのいくつかを提示し、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の世界シェアを分析しています:
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実現可能性モデル |
地域 |
市場成熟度 |
医療システムの構造 |
経済発展段階 |
競争環境の密度 |
適用理由 |
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イノベーション主導型研究開発コラボレーション |
北米 |
成熟 |
ハイブリッド |
先進国 |
高 |
学術機関、サプライヤー、IDMファブ間の強力な連携が、EUVの急速な導入を支えています |
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ハブアンドスポーク型製造 |
アジア太平洋地域 |
成熟 |
ハイブリッド |
新興国 |
高 |
台湾、韓国、日本の地域ハブがEUVのスケーリングと下請けを支えています |
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精密供給の専門化 |
ヨーロッパ |
成熟 |
ハイブリッド |
先進国 |
中 |
光学、レジスト、計測におけるニッチな専門知識が、グローバルなEUVサプライチェーンを補完しています |
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ローカリゼーションと技術移転 |
Mask |
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サブシステムベンダーの拡大 |
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官民半導体コンソーシアム |
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グリーン製造とサステナビリティの連携 |
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人材育成と人材パイプライン |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
市場傾向分析と将来予測：地域市場の見通しの概要
➤北米の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模：
北米の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、2025ー2035年の間に堅調な成長を遂げ、28%の収益シェアを獲得すると見込まれています。
この地域は、AIアクセラレータ、HBM周辺ロジック、主要なスマートデバイスSoCなどの先端ノードでEUVパターン層を必要とするAIと機械学習チップの旺盛な需要の恩恵を受けています。米国やカナダなど多くの国には、AI研究センターやハイパースケーラーによるAI構築拠点があり、最先端のファウンドリの進出も市場の成長を後押ししています。
これに伴い、EVやADASプラットフォームは、MCUと車載AIシステムの高性能化と異種統合のためにEUVリソグラフィの採用へと移行しています。
- 北米の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の市場強度分析：
北米の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです:
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カテゴリー |
米国 |
カナダ |
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市場成長の可能性 |
強力 |
中程度 |
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規制環境の複雑さ |
複雑 |
標準 |
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価格体系 |
市場主導型 |
市場主導型 |
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熟練人材の確保 |
Mask |
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標準と認証フレームワーク |
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イノベーション エコシステム |
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技術統合率 |
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市場参入障壁 |
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投資環境 |
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サプライチェーンの統合 |
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競争の激しさ |
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顧客基盤の高度化 |
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インフラ整備状況 |
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貿易政策の影響 |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
➤ヨーロッパの極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模：
当社の調査によると、ヨーロッパ地域の極端紫外線（EUV）市場は着実な成長を遂げており、予測期間中に16%の市場シェアを占めることが示されています。
市場は、サプライチェーンの現地化を促進する政府機関やインセンティブによる多大な支援を受けています。例えば、EUチップ法は、チップ生産の最大化を図るために、数十億米ドル規模の公的と民間投資に対応してきました。フランスなどの国では、航空宇宙と防衛分野の電気アプリケーションにおいて、EUV対応のセキュアプロセッサとセンサーへの移行が進んでおり、市場にさらなる機会が生まれています。さらに、高い製造能力と研究開発の連携が市場の成長をさらに促進しています。
- ヨーロッパの極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の市場強度分析：
ヨーロッパの極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです:
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カテゴリー |
イギリス |
ドイツ |
フランス |
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市場成長の可能性 |
中程度 |
強 |
強 |
|
半導体に対する政府の優遇措置 |
中 |
高 |
高 |
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製造能力 |
限定的 |
上級 |
中程度 |
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設計とIP能力 |
Mask |
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パッケージングとテストインフラ |
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人材の確保 |
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研究開発における連携 |
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サプライチェーンのレジリエンス |
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エネルギーとサステナビリティへの取り組み |
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グローバル競争力 |
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規制の複雑さ |
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クラスターの強み |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析
➤アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模：
アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、予測期間中に48%の収益規模を獲得し、最大の市場シェアを占めると予想されています。
この地域は、先端ノード技術の急速な導入と民生用電子機器の成長によって特徴づけられ、EUVリソグラフィ市場の需要拡大を牽引しています。韓国や中国などの国々は、AIアクセラレータとHBMの革新において市場をリードしており、サムスン、バイドゥ、アリババなどの企業が主導権を握ってEUVの需要を牽引しています。一方、インドとマレーシアは、グローバルブランド向けにEMSとパッケージングサービスを提供しています。これを覆すように、市場ではEUV技術を必要とするいくつかの産業用IoTとオートメーションが展示されており、市場を前進させています。
- アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の市場強度分析：
アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関連する国の市場強度分析は次のとおりです:
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カテゴリー |
日本 |
韓国 |
マレーシア |
中国 |
インド |
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ファブ生産能力（WSPM） |
高 |
高 |
中 |
高 |
低 |
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テクノロジーノードリーダーシップ |
5nm未満 |
5nm未満 |
成人向け |
7nm未満 |
成熟 |
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輸出量 |
中 |
高 |
高 |
高 |
中 |
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車載用チップ製造 |
Mask |
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コンシューマーエレクトロニクス需要 |
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AI/データセンター用チップ生産能力 |
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政府インセンティブ |
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サプライチェーンの深さ |
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研究開発エコシステムの強さ |
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市場参入障壁 |
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ース: SDKI Analytics 専門家分析
極端紫外線（EUV）リソグラフィ業界概要と競争ランドスケープ
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のメーカーシェアを独占する世界トップ10の企業は次のとおりです:
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会社名 |
本社所在地 |
極端紫外線（EUV）リソグラフィとの関係 |
|
ASML Holding NV |
オランダ |
EUVリソグラフィシステムの完全独占サプライヤー；先端半導体製造向けシリコンウェーハのパターン形成に13.5nm波長の光を使用するスキャナーを製造 |
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Carl Zeiss AG |
ドイツ |
EUV光の集光に不可欠なミラーや投影光学系など、EUVリソグラフィシステム用の精密光学系を製造；ASMLの主要サプライヤー |
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KLA Corporation |
米国 |
プロセス制御と歩留まり管理ソリューションを提供；フォトマスクとウェーハ向けのEUV専用計測と検査システムを提供 |
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TRUMPF |
Mask |
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Applied Materials, Inc. |
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Lam Research |
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Samsung Electronics Co Ltd |
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SK Hynix |
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Intel Corporation |
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GlobalFoundries |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析及び企業ウェブサイト
日本の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のメーカーシェアを独占する上位10社は次のとおりです:
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会社名 |
事業状況 |
極端紫外線（EUV）リソグラフィ関連 |
|
Canon Inc. |
日本発祥 |
半導体リソグラフィ装置の開発、EUV技術の研究、関連する半導体製造ソリューションの提供 |
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Nikon Corporation |
日本発祥 |
半導体リソグラフィシステムの製造、EUV関連技術の開発、先端半導体製造支援サービスの提供 |
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Lasertec Corporation |
日本発祥 |
EUVフォトマスク検査装置の製造、EUVマスクブランクスとフォトマスク用の重要な試験と評価装置の提供 |
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TOPPAN Inc. |
Mask |
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Ushio Inc. |
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HOYA Corporation |
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AGC Inc. |
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Energetiq Technology, Inc. |
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NuFlare Technology Inc. |
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Tokyo Electron Limited (TEL) |
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ソース: SDKI Analytics 専門家分析及び企業ウェブサイト
極端紫外線（EUV）リソグラフィ 市場 包括的企業分析フレームワーク
市場内の各競合他社について、次の主要領域が分析されます 極端紫外線（EUV）リソグラフィ 市場:
- 会社概要
- リスク分析
- 事業戦略
- 最近の動向
- 主要製品ラインナップ
- 地域展開
- 財務実績
- SWOT分析
- 主要業績指標
極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場最近の開発
世界と日本における極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関連する最近の商業的発売と技術進歩のいくつかは次のとおりです:
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会社名 |
発売の詳細 |
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Intel Corporation |
業界初の高NA EUV統合 - オレゴン州にあるインテルのD1X工場において、業界初の高NA EUVリソグラフィーシステムの組み立てを完了し、キャリブレーションを開始しました。 |
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HOYA Corporation |
先進的なEUVマスクブランク技術 - 欠陥を低減し、耐久性を向上させた次世代EUVマスクブランクを発表しました；この新しいブランクは、高NA EUVアプリケーションに不可欠な、反射率の向上と熱膨張特性の低減を実現する強化された多層コーティングを採用しています。 |
ソース：企業プレスリリース
目次
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よくある質問
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